目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是()A、气相法B、固相法C、液相法D、化学气相沉积法
目前常用刀具涂层方法有（）。A、化学气相沉积法B、物理气相沉积法C、盐浴浸镀法D、等离子喷涂
生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）A、物理气相沉积法；B、化学气相沉积法；C、气相法；D、固相法
在光纤的制备方法中，VAD法是指（）。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法
利用化学气相沉积法和物理气相沉积法均可以获得非晶硅膜。
目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（）、固相结晶、等。
化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了（）。
判断题化学气相浸渍法（CVI）是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。A对B错
单选题集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）A溅射物理气相沉积B蒸发物理气相沉积C等离子增强化学气相沉积D低压化学气相沉积
问答题简述影响化学气相沉积制备材料质量的几个主要因素。
问答题化学气相沉积与物理气象沉积技术的区别是什么，它们的主要应用场合？
填空题气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（）。
单选题“PECVD”中文表述是（）。A脉冲激光沉积B金属有机化学气相沉积C溅射D等离子体增强化学气相沉积
问答题比较磁控溅射法与化学气相沉积法的特点是什么？