判断题化学气相浸渍法(CVI)是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。A对B错

判断题
化学气相浸渍法(CVI)是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。
A

B


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相关考题:

目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是()A、气相法B、固相法C、液相法D、化学气相沉积法

简述化学气相沉积工艺过程的要点。

什么叫化学气相沉积?

目前常用刀具涂层方法有()。A、化学气相沉积法B、物理气相沉积法C、盐浴浸镀法D、等离子喷涂

化学气相沉积技术主要用于()类刀具的表面涂层。

生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指()A、物理气相沉积法;B、化学气相沉积法;C、气相法;D、固相法

化学气相沉积(气→固)可以分为哪几种?

利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)

简述化学气相沉积生产装置

化学气相沉积

在光纤的制备方法中,VAD法是指()。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法

利用化学气相沉积法和物理气相沉积法均可以获得非晶硅膜。

目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、()、固相结晶、等。

化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么?

()用于成型大型的结构复杂的薄壁制品。A、注浆法B、浸渍法C、气相沉积法D、热压法

单选题制备石英光纤有多种方法,其中等离子体化学气相沉积法的缩写是()APCVDBCVDCMCVDDAVD

问答题简述化学气相沉积法的五个基本步骤

问答题何为化学气相沉积法?简述其应用及分类。

单选题集成电路生产中,金属薄膜的沉积通常采用()A溅射物理气相沉积B蒸发物理气相沉积C等离子增强化学气相沉积D低压化学气相沉积

问答题化学气相沉积与物理气相沉积有什么区别?

名词解释题化学气相沉积

问答题什么是化学气相沉积?

填空题气相沉积法分为()和化学沉积法;化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、()。

问答题简述化学气相沉积法的步骤。

单选题“PECVD”中文表述是()。A脉冲激光沉积B金属有机化学气相沉积C溅射D等离子体增强化学气相沉积

问答题化学气相沉积法的概念是什么?

单选题()用于成型大型的结构复杂的薄壁制品。A注浆法B浸渍法C气相沉积法D热压法