化学气相沉积

化学气相沉积

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什么叫化学气相沉积？
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目前常用刀具涂层方法有（）。A、化学气相沉积法B、物理气相沉积法C、盐浴浸镀法D、等离子喷涂
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化学气相沉积技术主要用于（）类刀具的表面涂层。
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生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）A、物理气相沉积法；B、化学气相沉积法；C、气相法；D、固相法
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化学气相沉积（气→固）可以分为哪几种？
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利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A、物理气相沉积（PVD）B、物理气相沉积（CVD）C、化学气相沉积（VCD）D、化学气相沉积（CVD）
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简述化学气相沉积生产装置
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在光纤的制备方法中，VAD法是指（）。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法
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利用化学气相沉积法和物理气相沉积法均可以获得非晶硅膜。
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目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（）、固相结晶、等。
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化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了（）。
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判断题化学气相浸渍法（CVI）是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。A对B错
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问答题简述化学气相沉积法的五个基本步骤
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单选题利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A物理气相沉积（PVD）B物理气相沉积（CVD）C化学气相沉积（VCD）D化学气相沉积（CVD）
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单选题集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）A溅射物理气相沉积B蒸发物理气相沉积C等离子增强化学气相沉积D低压化学气相沉积
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填空题化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了（）。
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问答题化学气相沉积与物理气相沉积有什么区别？
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问答题化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么？
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名词解释题化学气相沉积
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问答题什么是化学气相沉积？
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填空题气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（）。
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问答题简述化学气相沉积法的步骤。
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判断题CVD为化学气相沉积技术的简称。A对B错
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单选题“PECVD”中文表述是（）。A脉冲激光沉积B金属有机化学气相沉积C溅射D等离子体增强化学气相沉积
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问答题化学气相沉积法的概念是什么？
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问答题简述化学气相沉积的特点。
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单选题在大马士革铜工艺中，铜薄膜通常采用（）方式获得。A物理气相沉积B化学气相沉积C电化学镀D热氧化
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