问答题简述化学气相沉积工艺过程的要点。

问答题
简述化学气相沉积工艺过程的要点。

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属于整体热处理工艺的有()。 A、退火B、正火C、淬火D、渗碳E、化学气相沉积

简述化学气相沉积工艺过程的要点。

什么叫化学气相沉积?

化学气相沉积(气→固)可以分为哪几种?

利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)

简述化学气相沉积原理及其应用。

简述化学气相沉积生产装置

化学气相沉积

在光纤的制备方法中,VAD法是指()。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法

化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么?

化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了()。

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单选题利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A物理气相沉积(PVD)B物理气相沉积(CVD)C化学气相沉积(VCD)D化学气相沉积(CVD)

单选题集成电路生产中,金属薄膜的沉积通常采用()A溅射物理气相沉积B蒸发物理气相沉积C等离子增强化学气相沉积D低压化学气相沉积

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名词解释题化学气相沉积

填空题气相沉积法分为()和化学沉积法;化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、()。

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单选题“PECVD”中文表述是()。A脉冲激光沉积B金属有机化学气相沉积C溅射D等离子体增强化学气相沉积

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单选题在大马士革铜工艺中,铜薄膜通常采用()方式获得。A物理气相沉积B化学气相沉积C电化学镀D热氧化