在常温下不会发生分解的沉淀可以认为是稳定的沉淀。
在常温下不会发生分解的沉淀可以认为是稳定的沉淀。
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由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是A、玷污随时间的延长而减少B、在较高的温度下，玷污较小C、只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D、在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生
关于高分子溶液剂稳定性叙述,错误的是() A、稳定性主要取决于水化作用和荷电B、加入大量脱水剂可使高分子化合物分离沉淀C、带相反电荷的两种高分子溶液混合时，一般不会发生沉淀D、高分子溶液久置会自发凝结而沉淀E、在光、热、pH、射线作用下，高分子溶液可出现絮凝现象
因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）A、随时间的延长而减少B、在较高的温度下，沾污较少C、只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D、在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生
单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（ ）。A只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污B在沉淀前，调节溶液的pH可以控制粘污的发生C在较高的温度下，粘污较小D粘污随陈化时间的延长而减少E改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）A玷污随时间的延长而减少B在较高的温度下，玷污较小C只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生
单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（）A粘污随时间的延长而减少B在较高的温度下，粘污较小C只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污D在沉淀前，调节溶液的pH可以控制粘污的发生E改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
单选题因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）A随时间的延长而减少B在较高的温度下，沾污较少C只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生E改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生