填空题大注入条件是指注入某区边界附近的()浓度远大于该区的()浓度,因此该区总的多子浓度中的()多子浓度可以忽略。

填空题
大注入条件是指注入某区边界附近的()浓度远大于该区的()浓度,因此该区总的多子浓度中的()多子浓度可以忽略。

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反应速度与酶浓度成正比的前提条件是A.底物被酶饱和B.反应速度达最大C.酶浓度远大于底物浓度D.底物浓度远大于酶浓度E.反应刚开始

水的硬度一般是指()。 A、钙镁离子的总浓度B、钙离子的总浓度C、镁离子的总浓度D、钠离子的总浓度

反应速度与酶浓度成正比的条件是( )A、反应速度达到最大B、酶浓度远大于底物浓度C、底物被酶饱和D、反应刚开始E、底物浓度远大于酶浓度

酸度是指溶液中()。 A、OH-的浓度B、H+的浓度C、酸的总浓度D、H+的数目

酶浓度与反应速度呈直线关系的前提条件是()。 A.底物浓度不变B.酶浓度远远大于底物浓度C.底物浓度远远大于酶的浓度D.与底物浓度无关E.与温度高低无关

要求配制的消泡剂浓度及注入量?

PN结在未达到平衡前存在两种载流子的运动,即()A、载流子的浓度差引起的多子的漂移,电场引起的少子的扩散B、载流子的浓度差引起的多子的漂移,电场引起的少子的漂移C、载流子的浓度差引起的多子的扩散,电场引起的少子的扩散D、载流子的浓度差引起的多子的扩散,电场引起的少子的漂移

酸度是指溶液中的()。A、OH-的浓度B、H+的浓度C、酸的总浓度

酸的浓度是指()。A、溶液中酸的总浓度B、溶液中已离解酸的浓度C、溶液中H+的浓度

在聚合物用量相同的情况下,阶梯浓度段塞注入方案与整体浓度注入方案相比其驱油效果()。A、相同B、前者优于后者C、后者优于前者D、与注入浓度段塞的组合无关

将聚合物配制站输来的()母液加压后,在静态混合器中与低矿化度脱氧水混合,按照注入油藏性质的需求,配制的注入剂称为聚合物溶液。A、高浓度B、低浓度C、注入剂D、混合

PPM浓度指的是()分之一,假设一个井口平台的产油为6000方,综合含水为10%,指定药剂注入浓度为20PPM,那么每天的注入量是()升。

矿浆浓度大时,可以向池中注入()。

煤矿爆破中的“一炮三检”制度是指()。A、装药前检查爆破地点附近的瓦斯浓度B、钻孔前检查爆破地点附近的瓦斯浓度C、爆破前检查爆破地点附近的瓦斯浓度D、钻孔后检查爆破地点附近的瓦斯浓度E、爆破后要检查爆破地点附近的瓦斯浓度

温度升高,本征载流子浓度();杂质半导体中少子浓度(),多子浓度()

杂质半导体中()的浓度对温度敏感。A、少子B、多子C、杂质离子D、空穴

对于大注入下的直接复合,非平衡载流子的寿命不再是个常数,它与()。A、非平衡载流子浓度成正比;B、平衡载流子浓度成正比;C、非平衡载流子浓度成反比;D、平衡载流子浓度成反比。

杂质半导体多子的浓度受温度的影响很小。

填空题晶体管的注入效率是指()电流与()电流之比。为了提高注入效率,应当使()区掺杂浓度远大于()区掺杂浓度。

填空题小注入条件是指注入某区边界附近的()浓度远小于该区的()浓度,因此该区总的多子浓度中的()多子浓度可以忽略。

单选题反应速度与酶浓度成正比的前提条件是()A底物被酶饱和B反应速度达最大C酶浓度远大于底物浓度D底物浓度远大于酶浓度E反应刚开始

单选题对于大注入下的直接复合,非平衡载流子的寿命不再是个常数,它与()。A非平衡载流子浓度成正比;B平衡载流子浓度成正比;C非平衡载流子浓度成反比;D平衡载流子浓度成反比。

单选题PN结在未达到平衡前存在两种载流子的运动,即()A载流子的浓度差引起的多子的漂移,电场引起的少子的扩散B载流子的浓度差引起的多子的漂移,电场引起的少子的漂移C载流子的浓度差引起的多子的扩散,电场引起的少子的扩散D载流子的浓度差引起的多子的扩散,电场引起的少子的漂移

单选题半导体受光照、外电场作用,载流子浓度就要发生变化,这时半导体处于非平衡态。光照时()的浓度几乎不变,()的浓度却大大增加,因而可以说,一切半导体光电器件对光的响应都是()的行为。请选择正确的答案()A多子---少子---少子;B少子---多子---多子;C多子---多子---多子D少子---少子---少子。

填空题矿浆浓度大时,可以向池中注入()。

单选题反应速度与酶浓度成正比的条件是()A反应速度达到最大B酶浓度远大于底物浓度C底物被酶饱和D反应刚开始E底物浓度远大于酶浓度

多选题煤矿爆破中的“一炮三检”制度是指()。A装药前检查爆破地点附近的瓦斯浓度B钻孔前检查爆破地点附近的瓦斯浓度C爆破前检查爆破地点附近的瓦斯浓度D钻孔后检查爆破地点附近的瓦斯浓度E爆破后要检查爆破地点附近的瓦斯浓度