传统嗮版是应用（）的方式，通过软片把原图转移到金属版上。A.照相B.显影C.烤版D.接触曝光
根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
直接接触器容易损坏还是交流接触器容易损坏？为什么？
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。A、接触B、接近式C、投影
器件的横向尺寸控制几乎全由（）来实现。A、掩膜版B、扩散C、光刻
下列有关曝光系统的说法正确的是（）。A、投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高B、接触式的分辨率优于接近式C、接近式的分辨率受到衍射的影响D、投影式曝光系统中不会产生衍射现象E、投影式曝光是目前采用的主要曝光系统
膜厚测试器主要用来测试（）A、网布之网目B、网布的张力C、版膜的厚度D、版膜曝光时间
乳剂未含感光剂时（）A、版膜不干燥B、版膜冲不掉C、无法显像会败版D、加强曝光时间即可
对二次曝光以下所述错误的是（）A、不影响版膜厚度B、与分辨率无关C、版膜较会坚牢D、可去除针孔
（）不是曝光不足所做的处理。A、二度曝光B、避免产生薄膜C、版膜脱落修补D、补框边
传统嗮版是应用（）的方式，通过软片把原图转移到金属版上。A、照相B、显影C、烤版D、接触曝光
制版工程数愈多表示（）A、版膜较厚B、晒版时间较少C、版愈多块D、曝光次数多
晒版前版膜少部份滴着水份，应（）A、用布擦干B、再行烘版C、加强曝光时间
晒版前如发现版膜厚度不足，应（）A、加强曝光时间B、再行烘干C、减少曝光时间D、再行涂布感光乳剂
直间接晒版以下所述（）错误A、曝光过度版纹冲版不易B、曝光不足版膜较薄C、直间接感光胶片可以水贴合D、直间接胶片感光后再贴
直流接触器容易损坏还是交流接触器容易损坏？为什么？
判断题投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。A对B错
单选题传统嗮版是应用（）的方式，通过软片把原图转移到金属版上。A照相B显影C烤版D接触曝光
判断题在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A对B错
判断题集成电路制造与集成电路设计相关纽带是光刻掩膜版。A对B错
填空题光刻的图形曝光方式有：接触式曝光、接近式曝光和（）曝光。
判断题制备光刻掩膜版，希望黑白区域间的过渡区越大越好。A对B错
判断题光掩膜法中一次固化是一个截面，而光固化成形是逐点成面，因而光掩膜法成形效率比光固化成形高得多。A对B错
判断题步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。A对B错
判断题阳图型PS版曝光后，构成网点的感光膜层厚度越小，版材印刷寿命越长。A对B错