要求舌连接杆的下缘1/3~1/4应与黏膜组织形成0.2~0.3mm间隙,主要用于A、舌连接杆较长时B、游离端缺失,舌侧组织呈斜坡型C、非游离端缺失,舌侧组织呈斜坡型D、游离端缺失,舌侧组织呈垂直型E、非游离端缺失,舌侧组织呈垂直型

要求舌连接杆的下缘1/3~1/4应与黏膜组织形成0.2~0.3mm间隙,主要用于

A、舌连接杆较长时

B、游离端缺失,舌侧组织呈斜坡型

C、非游离端缺失,舌侧组织呈斜坡型

D、游离端缺失,舌侧组织呈垂直型

E、非游离端缺失,舌侧组织呈垂直型


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连接杆边缘应与黏膜组织呈移行(即薄边)的是A、舌连接杆的下缘B、唇连接杆的下缘C、颊连接杆的下缘D、舌板的下缘E、腭连接杆的边缘

当患者下颌双侧磨牙游离端缺失,且下颌口底间隙深度(龈缘至口腔底点膜转折处)小于8mm时,大连接体应设计为()A、舌下杆B、舌上杆C、舌板D、舌中杆