抛光机的操作步骤包括( )。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A.粗抛和细抛；直角B.粗磨和细磨；直角C.粗抛和细抛；锐角D.粗磨和细磨；锐角
抛光机的操作步骤包括粗抛和细抛。抛光时镜片与抛光轮呈( )状态。A.锐角B.直角C.钝角D.任意角
金属基底冠铸造后的处理步骤正确的是A．去除铸件表面的包埋料B．表面机械处理、抛光C．清洁处理D．表面酸蚀处理E．除气、预氧化
涂装工艺的三个基本工序不包括的是( )。A.涂前表面处理B.涂布C.修饰抛光D.干燥
选磨步骤不包括A.正中选磨B.前伸选磨C.侧方选磨D.面形态修整E.抛光打磨
抛光机的操作步骤包括粗抛和细抛。抛光时镜片与抛光轮呈（）状态。A、锐角B、直角C、钝角D、任意角
抛光机的操作步骤包括（）。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A、粗抛和细抛；直角B、粗磨和细磨；直角C、粗抛和细抛；锐角D、粗磨和细磨；锐角
焊缝打磨的步骤（）A、检查先决条件B、打磨前分析外观C、打磨D、抛光
下列面漆膜局部缺陷中，无法用抛光法处理的是（）A、颗粒B、桔皮C、失光D、露底
抛光法处理步骤中有是：（）A、涂B、滿C、磨D、抛
涂装工艺的三个基本工序不包括的是（）。A、漆前表面处理B、涂布C、修饰抛光D、干燥
自然氧化不严重或浅划痕导致的（）处理方法。采用抛光研磨的方法进行处理。A、抛光B、失光C、上光D、翻新
电镀的步骤不包括（）？A、镀前处理B、电镀C、打磨D、镀后处理
硅片抛光在原理上不可分为（）A、机械抛光法B、化学抛光法C、手工抛光法D、机械--化学抛光法
单选题抛光法处理步骤中没有的是：（）A涂B滿C磨D抛
单选题硅片抛光在原理上不可分为（）A机械抛光法B化学抛光法C手工抛光法D机械--化学抛光法
多选题石材养护的基本方法有（ ）。A接杆清洁法B打蜡C蜡面抛光D晶面处理
单选题抛光机的操作步骤包括粗抛和细抛。抛光时镜片与抛光轮呈（）状态。A锐角B直角C钝角D任意角
单选题不能使用抛光法处理的面漆局部问题是：（）A颗粒B桔皮C漏喷D失光
单选题涂装工艺的三个基本工序不包括的是（）A漆前表面处理B涂布C修饰抛光D干燥
单选题抛光机的操作步骤包括（）。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A粗抛和细抛；直角B粗磨和细磨；直角C粗抛和细抛；锐角D粗磨和细磨；锐角