关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是A.被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B.探测器有电离室式、半导体、荧光体三种C.AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D.探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样E.探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择

关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是

A.被照体很薄时,AEC也可立即切断X线

B.探测器有电离室式、半导体、荧光体三种

C.AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关

D.探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样

E.探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择


相关考题:

关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是A、利用气体的电离效应B、X线强度大时,电离电流大C、X线强度大时,曝光时间长D、电容充电电流与X线曝光量成反比E、电离电流小时,曝光时间长

关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是A、根据被照体厚薄预先确定曝光量B、有电离室式探测器C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D、有半导体式探测器E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

关于X线信息的传递叙述错误的是A、X线是信息的载体B、被照体可作为信息源C、被照体因素不包括组织器官厚度D、信息的质与量取决于被照体因素及射线因素E、增感屏可将X线转换为荧光分布

关于变形控制的叙述错误的是A、受摄影过程中几何条件的控制B、被照体平行于胶片时变形最小C、被照体接近中心线并尽量远离探测器时可减少位置变形D、一般中心线应通过被检部位并垂直于胶片E、变形取决于焦点、被照体和探测器三者间的位置关系

关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是A、被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B、半导体、荧光体3种C、AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D、探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样E、形状、数量应根据摄影部位选择

关于影响X线照片密度的因素,下述错误的是A.照射量B.管电压C.摄影距离D.被照体厚度E.被照体面积

关于影响X线照片密度的因素,错误的是A.照射量B.管电压C.摄影距离D.被照体厚度E.被照体面积

下列关于自动曝光控制的叙述,错误的是A.可采用荧光体型探测器B.可采用电离室型探测器C.可减少人为条件选择不当的失误D.可自动切断X线的产生E.多在一钮制设备中使用

关于电离室自动曝光控制叙述错误的是A.利用气体的电离效应B.X线强度大时,电离电流大C.X线强度大时,曝光时间短D.电容充电电流与X线曝光量成反比E.电离电流小时,需要的曝光时间长

常规自动曝光摄影用的探测器是A.机械式B.电子式C.数字式D.电离室式E.闪烁晶体

关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是 A.利用气体的电离效应B.X线强度大时,电离电流大C.X线强度大时,曝光时间长D.电容充电电流与X线曝光量呈反比E.电离电流小时,曝光时间长

有关中心线、照射野的叙述,错误的是A、X线束入射于被照体的曝光面的大小称照射野B、摄影时照射野应缩小到能容下被检部位的标度C、照射野的大小大多用遮线器控制D、来自中心部分的X线为中心线E、中心线必须垂直于被照体中心

关于X线影像信息的传递及影像形成的叙述,错误的是A.被照体的信息分布于三维空间B.被照体信息须经转换介质转换C.X线诊断的信息来源于被照体D.X线为传递被照体信息的载体E.X线影像表现形式均为三维图像

关于高千伏摄影选用设备及条件的叙述,错误的是 A、选用150kV管电压的X线机B、选用低栅比滤线器C、选用密纹滤线栅D、可用空气间隙效应代替滤线栅E、采用自动曝光控制(AEC)

下列关于X线照片对比度的影响因素,错误的是A.胶片的反差系数B.X线质C.X线量D.被照体本身因素E.被照体与球管距离

关于X线对比度的叙述,正确的是A.透过被照体两部分的X线强度的和B.透过被照体两部分的X线强度平方的差C.透过被照体两部分的X线强度的比D.透过被照体两部分的X线强度的积E.透过被照体两部分的X线强度的倍数

关于高千伏摄影选用设备及条件的叙述,错误的是A.选用150kV管电压的X线机B.选用低栅比滤线器C.选用密纹滤线栅D.可用空气间隙效应代替滤线栅E.采用自动曝光控制(AEC)

关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是()A、被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B、探测器有电离室式、半导体、荧光体3种C、AEC的管电压特性与所用屏-片体系的管电压特性有关D、探测器置于屏-片体系之前还是之后,效果不一样E、探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择

有关中心线、照射野的叙述,错误的是()A、X线束入射于被照体的曝光面的大小称照射野B、摄影时照射野应缩小到能容下被检部位的标度C、照射野的大小大多用遮线器控制D、中心线必须垂直于被照体中心

关于-DSA自动曝光的叙述,错误的是()A、有光电管自动曝光控制B、有电离室自动曝光控制C、光电管自动曝光控制的基础是荧光效应D、电离室自动曝光控制的基础是电离效应E、-DSA检查一般选择手动曝光条件

单选题关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是()。A被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B半导体、荧光体3种CAEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样E形状、数量应根据摄影部位选择

单选题关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是()A被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B探测器有电离室式、半导体、荧光体3种CAEC的管电压特性与所用屏-片体系的管电压特性有关D探测器置于屏-片体系之前还是之后,效果不一样E探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择

单选题下列关于自动曝光控制的叙述,错误的是(  )。A可采用荧光体型探测器B可采用电离室型探测器C可减少人为条件选择不当的失误D可自动切断X线的产生E多在一钮制设备中使用

单选题关于-DSA自动曝光的叙述,错误的是()A有光电管自动曝光控制B有电离室自动曝光控制C光电管自动曝光控制的基础是荧光效应D电离室自动曝光控制的基础是电离效应E-DSA检查一般选择手动曝光条件

单选题关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是()。A根据被照体厚薄预先确定曝光量B有电离室式探测器CAEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D有半导体式探测器E探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

单选题关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是()A利用气体的电离效应BX线强度大时,电离电流大CX线强度大时,曝光时间长D电容充电电流与X线曝光量成反比E电离电流小时,曝光时间长

填空题程序控制式自动曝光是:X线曝光时,()透过被照体到达暗盒上的X线强度,当X线强度达到一定值后,自动终止曝光,所以又称为()自动控制曝光。