一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是

A、取下腭杆

B、腭杆组织面做缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆,让患者戴走E、取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是 A、不做处理,让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。初戴时,发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不必处理B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.去除腭杆,让患者将义齿戴走E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.取下腭杆B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.不做处理,让患者将义齿戴走D.腭杆组织面缓冲E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.不做处理,让患者将义齿戴走B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.取下腭杆E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不做处理B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.基托组织面缓冲D.取下腭杆,用自凝树脂修补缺口E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.腭杆组织面缓冲B.取下腭杆C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆D.不做处理,让患者把义齿戴走E.腭杆组织面加自凝树脂重衬