烤瓷熔附金属全冠的基底冠厚度至少为A、0.1mmB、0.3mmC、0.5mmD、1mmE、2mm

烤瓷熔附金属全冠的基底冠厚度至少为

A、0.1mm

B、0.3mm

C、0.5mm

D、1mm

E、2mm

相关考题：

非贵金属烤瓷全冠的金属基底冠厚度通常不低于A、0.1mmB、0.2mmC、0.3mmD、0.4mmE、0.5mm

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金属烤瓷冠的基底冠厚度至少为A、0.1mmB、0.2mmC、0.3mmD、0.5mmE、1.0mm

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非贵金属烤瓷全冠的金属基底冠厚度一般应为A、0.1～0.2mmB、0.2～0.3mmC、0.3～0.5mmD、0.5～0.7mmE、1.0mm

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非贵金属烤瓷全冠的金属基底冠厚度应为A、0.05～0.1mmB、0.2～0.25mmC、0.3～0.5mmD、0.55～0.65mmE、0.2～0.8mm

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金属烤瓷冠的基底冠厚度至少为

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制作烤瓷熔附金属全冠底冠时，金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A．0.2～2μmB．5～10μmC．15～20μmD．25～30μmE．30μm

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真空高温条件下金属基底上制作的金属-烤瓷复合结构的全冠A.嵌体B.半冠C.烤瓷熔附金属全冠D.桩冠E.3／4冠

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烤瓷熔附金属全冠的基底冠厚度至少为A.0.3mmB.2mmC.0.5mmD.0.1mmE.1mm

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A.0.1mmB.0.2mmC.0.3mmD.0.5mmE.1.0mm烤瓷熔附金属冠的基底冠厚度至少为

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