高炉内按温度区间和还原主要反应划分，（）为直接还原区。
高炉内还原1kg硅所耗热量是还原1kgFe铁的（）倍。A、4B、5C、8D、6
促进硅还原的措施有（）。A、提高炉渣碱度B、增加炉渣中SiO2的数量C、提高高炉下部温度D、降低高炉下部温度
硅的还原是（）进行的。A、逐级B、一级C、二级D、三级
根据高炉解剖研究和高炉生产取样测定，都表明硅是在炉腰或炉腹上部才开始还原的。
硅的还原是在高炉的（）或（）上部才开始，达到（）水平面时达到最高，此时铁中含硅量是终铁含硅量的（）倍。
高炉内铁氧化物的还原与（）为界，还原顺序不同。A、8000B、9000C、5700D、11000
高炉内氧化物在逐级还原的过程中（）是最关键的。A、FeB、FeOC、Fe3O4D、Fe2O3
高炉内铁氧化物的还原是由高级向低级氧化物逐级还原的。
硅铁的含量越高，SiO2开始还原（）亦越高，亦即还原越困难。
随着钢液中硅含量的增加，脱氧产物将按下列顺序而变化：FeO+2FeO·SiO2→FeO·SiO2—FeO·SiO2→SiO2（s）。
促进硅还原的措施有；答案（）A、提高炉渣碱度B、增加炉渣中SiO2数量C、提高高炉下部温度D、降低高炉下部温度
根据高炉内硅还原的机理，降低生铁含硅的途径是：首先是降低软熔带位置、缩小熔滴带高度；其次降低风口前燃烧温度，直接减少SiO的发生量；三是应减少入炉的SiO2量，降低炉渣中SiO2的活度。
硅的还原从滴落带开始，还原的途径有三种：渣铁反应、渣焦反应、气相SiO2还原，其中（）是硅还原的主要途径。A、 渣铁反应B、 渣焦反应C、 气相SiO2还原
下列（）是硅还原的特点？A、硅在炉腰或炉腹上部开始还原B、铁中含硅量是最终铁含硅量的2.34-3.87倍C、硅在炉腹中部还原量最大D、硅在滴落带内被大量还原
关于高炉内Si的还原叙述正错误的是（）A、Si的还原在高炉中只能以直接还原的方式进行B、提高炉温有利于Si的还原C、提高炉渣碱度有利于Si的还原D、高压操作利于冶炼低硅生铁
1500℃以上硅的还原顺序为SiO2→SiO→Si，到达风口时[Si]含量达到最大值。
根据高炉解剖研究表明：硅在炉腰或炉腹上部才开始还原，达到（）时还原出的硅含量达到最高值。A、铁口B、滴落带C、风口D、渣口
硅在大于1500℃的高炉内的还原顺序是按SiO2→（）→Si逐级进行的。
冶炼低硅尘铁，适当提高炉渣碱度是因为（）。A、提高炉渣的脱硫能力B、降低炉渣的熔化温度C、保证充足炉温D、抑制锰的还原从而抑制硅的还原