在甲醇合成,压力调节通常采用调节()。 A.循环机转速B.循环气中的惰性气含量C.触媒床层温度D.循环机回流阀开度
含成氨生产中，半水煤气中氧含量变化 将引起变换触媒层温度剧烈变化，为了保证安全运行，解决触媒层温度调节系统的滞后现象可()。A.后馈调节B.中间调节C.前馈调节D.任意调节
23#触媒为何要再生（）A、提高床层温度B、提高触媒活性C、降低床层温度
调节触媒层温度的方法有哪些，正确的是（）A、改变循环量B、调节塔主线C、改变进口氨含量D、改变惰性气体含量
变换触媒层温度下降的原因有（）A、蒸汽加入量小B、冷煤气量大C、触媒活性低
触媒层温度波动大的原因有哪些？处理方法分别是什么？
含成氨生产中，半水煤气中氧含量变化将引起变换触媒层温度剧烈变化，为了保证安全运行，解决触媒层温度调节系统的滞后现象可（）。A、后馈调节；B、中间调节；C、前馈调节；D、任意调节
触媒层温度控制原则：（）、（）、（）、（）、（）、（）。
触媒层温度突然下降，系统压力（）A、微量超高触媒中毒B、循环氢气太高C、循环氢气太低D、循环量小
硫化主期分两个阶段：触媒床层升到350℃—400℃，触媒床层各点温度为400℃—450℃。
变换触媒硫化升温阶段，触媒层温度控制在150℃—220℃之间
合成系统置换合格前，对触媒温度要求是（）。A、触媒降温B、触媒保温C、和触媒温度无关D、触媒升温
转化炉温度过高会烧坏触媒及衬里，过低会影响CH4的转化率，所以必须控制好转化触媒的床层温度。
合成气导气具备的条件是（）。A、触媒床层温度180℃B、触媒床层温度190℃C、合成气总流合格D、合成气的H/C为1
在甲醇合成，压力调节通常采用调节（）。A、循环机转速B、循环气中的惰性气含量C、触媒床层温度D、循环机回流阀开度
在甲醇合成单元，压力调节通常采用调节（）。A、循环机转速B、循环气中的惰性气含量C、触媒床层温度D、循环机回流阀开度
单选题23#触媒为何要再生（）A提高床层温度B提高触媒活性C降低床层温度
单选题含成氨生产中，半水煤气中氧含量变化将引起变换触媒层温度剧烈变化，为了保证安全运行，解决触媒层温度调节系统的滞后现象可（）。A后馈调节；B中间调节；C前馈调节；D任意调节