化学气相沉积的英文名称的缩写为()。A、LVDB、PEDC、CVDD、PVD

化学气相沉积的英文名称的缩写为()。

  • A、LVD
  • B、PED
  • C、CVD
  • D、PVD

相关考题:

()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。A、LPCVDB、PECVDC、CVDD、PVD

简述化学气相沉积工艺过程的要点。

什么叫化学气相沉积?

高速钢表面涂层工艺与硬质合金表面涂层技术类同,有()两种。A、高温烧结和高温高压烧结B、化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)C、热压法(HP)和热等静压法(HIP)D、电镀法和电铸法

生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指()A、物理气相沉积法;B、化学气相沉积法;C、气相法;D、固相法

化学气相沉积(气→固)可以分为哪几种?

利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)

简述化学气相沉积生产装置

化学气相沉积

PEDC是()的缩写。

在光纤的制备方法中,VAD法是指()。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法

物理气相沉积简称()。A、LVDB、PEDC、CVDD、PVD

化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么?

化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了()。

填空题化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了()。

问答题化学气相沉积与物理气相沉积有什么区别?

填空题PEDC是()的缩写。

单选题制备石英光纤有多种方法,其中等离子体化学气相沉积法的缩写是()APCVDBCVDCMCVDDAVD

单选题“PECVD”中文表述是()。A脉冲激光沉积B金属有机化学气相沉积C溅射D等离子体增强化学气相沉积

单选题集成电路生产中,金属薄膜的沉积通常采用()A溅射物理气相沉积B蒸发物理气相沉积C等离子增强化学气相沉积D低压化学气相沉积

问答题简述化学气相沉积的特点。

判断题CVD为化学气相沉积技术的简称。A对B错

填空题气相沉积法分为()和化学沉积法;化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、()。

问答题化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么?

问答题物理气相沉积(PVD)按沉积薄膜气相物质的生成方式和特征主要可以分为哪几种?

问答题物理气相沉积(PVD)

单选题利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A物理气相沉积(PVD)B物理气相沉积(CVD)C化学气相沉积(VCD)D化学气相沉积(CVD)