一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。A、产生一个离子并导向靶B、被轰击的原子向硅晶片运动C、离子把靶上的原子轰出来D、经过加速电场加速E、原子在硅晶片表面凝结
一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。
- A、产生一个离子并导向靶
- B、被轰击的原子向硅晶片运动
- C、离子把靶上的原子轰出来
- D、经过加速电场加速
- E、原子在硅晶片表面凝结
相关考题：
与连续X线波长无关的是( )。A.阴极电子是否正撞到靶物质的原子核B.阴极电子从靶物质原子核旁经过时离原子核的距离C.阴极电子本身的能量大小D.原子核的核电场强度大小E.靶物质原子核外电子的结合能大小
X线特征辐射的产生是由于()。A、高速运动的电子作用于靶原子的外层电子B、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子C、高速运动的电子作用于靶原子的原子核D、高速运动的电子作用于靶原子的光学轨道电子E、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核
与连续X线波长无关的是（）A、阴极电子是否正撞到靶物质的原子核B、阴极电子从靶物质原子核旁经过时离原子核的距离C、阴极电子本身的能量大小D、原子核的核电场强度大小E、靶物质原子核外电子的结合能大小
临床上使用的X线产生的方式一般是（）。A、使用高电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射B、使用低电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射C、使用高电位差或微波电场加速电子后打到低原子序数物质的靶上，产生韧致辐射D、使用高电位差或激光光波加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射E、使用高温加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射
X线的韧致辐射的产生是由于（ ）A、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子B、高速运动的电子作用于靶原子的外层电子C、高速运动的电子作用于靶原子的原子核D、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核E、高速运动的电子作用于靶原子的内层电子层电子
单选题X线特征辐射的产生是由于（）。A高速运动的电子作用于靶原子的外层电子B高速运动的电子作用于靶原子的内层电子C高速运动的电子作用于靶原子的原子核D高速运动的电子作用于靶原子的光学轨道电子E高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核
单选题X线的韧致辐射的产生是由于（ ）A高速运动的电子作用于靶原子的内层电子B高速运动的电子作用于靶原子的外层电子C高速运动的电子作用于靶原子的原子核D高速运动的电子作用于靶原子的内层电子和原子核E高速运动的电子作用于靶原子的内层电子层电子
多选题以下哪些工艺应用的原子扩散的理论（）A渗氮B渗碳C硅晶片掺杂D提拉单晶硅