关于反射系数和驻波比的关系,说法正确的是()。 A.驻波比不能反映终端匹配状态B.反射系数不能反映终端匹配状态C.反射系数和驻波比都可反映终端匹配状态
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。A、烘烤的目的是除去光刻胶中的水分B、烘烤可以减轻曝光中的驻波效应C、烘烤的温度一般在300℃左右D、烘烤的时间越长越好
解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
如何处理RRU和天线之间的常见故障？常见告警有驻波比，通道幅相一致性告警。
R04某通道存在驻波比高告警，如何排查并解决该故障？
请解释什么是远近效应，WCDMA网络是如何解决远近效应的？
关于反射系数和驻波比的关系，说法正确的是（）。A、驻波比不能反映终端匹配状态B、反射系数不能反映终端匹配状态C、反射系数和驻波比都可反映终端匹配状态
平面波入射到理想导体表面时，会引起全反射，入射波和反射波叠加之后所形成的合成波，磁场的驻波与电场的驻波错开1/4个波长。
问答题解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
问答题简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
问答题请解释什么是远近效应，WCDMA网络是如何解决远近效应的？
问答题什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。