单选题在涡流探伤中,试件中的涡流方向().A增加激励磁场的变化B阻碍激励磁场的变化C与激励磁场变化无关D只与激励场强绝对值有关

单选题
在涡流探伤中,试件中的涡流方向().
A

增加激励磁场的变化

B

阻碍激励磁场的变化

C

与激励磁场变化无关

D

只与激励场强绝对值有关


参考解析

解析: 暂无解析

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涡流探伤时,试件中涡流产生的磁场总是强化激励电流所产生的磁场。() 此题为判断题(对,错)。

在涡流探伤中,试件中的涡流方向().A、增加激励磁场的变化B、阻碍激励磁场的变化C、与激励磁场变化无关D、只与激励场强绝对值有关

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如涡流探伤的激励频率增加,而场强不变,则试件表面的涡流密度会().A、增加B、减小C、不变D、等于0

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在探伤中采用多通道涡流探伤仪的目的是()

涡流探伤时,试件中涡流产生的磁场总是强化激励电流所产生的磁场。

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涡流探伤中,试件和检测线圈不同心,造成距线圈较远的缺陷()

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单选题在涡流探伤时,试件中的涡流将()。A集中于试件中心B在试件中均匀分布C主要集中于试件表面D以上全不对

填空题涡流探伤仪在测试漏、误报率时,要将标准试件连续测试()次。

单选题为了探出所需深度中的缺陷,在涡流探伤中可选用的条件是()。A试件电导率B激励频率C试件导磁率D试件尺寸

单选题如涡流探伤的激励频率增加,而场强不变,则试件表面的涡流密度会().A增加B减小C不变D等于0

单选题在涡流探伤中,在试件上感生的电流方向().A与激励电流的方向相同B与激励电流的方向相反C与激励电流的方向无关D取决于激励电流是直流还是交流

判断题涡流探伤时,试件中涡流产生的磁场总是强化激励电流所产生的磁场。A对B错

单选题在涡流探伤中,试件中感生出的涡流方向是()。A增加激励磁场的变化B阻碍激励磁场变化C与激励磁场变化无关D与激励场强绝对值有关

填空题涡流探伤中,试件和检测线圈不同心,造成距线圈较远的缺陷()

单选题激励绕组的功能是()。A发现试件中涡流变化B在试件中激励出涡流C发现试件中的分子磁矩D激励出试件磁畴