问答题说明RCA清洗硅片的方法，SC-1和SC-2的配方特点
问答题
说明RCA清洗硅片的方法，SC-1和SC-2的配方特点
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填空题冷却系内积有水垢，应按内燃机说明书的配方配制清洗液进行清洗，内燃机以中等转速运转5~10min后，让清洗液在机内停留（）ｈ，再起动内燃机运转（）min。放出清洗液。然后注入清水，并以中等转速运转清洗（）次，以彻底排出残存的碱溶液即可。如水垢多，可重复清洗1次，铝质气缸盖和水箱，节温器等易受清洗液腐蚀，清洗时可拆掉。
单选题正确的框图简要说明硅片制备主要工艺流程是（）A单晶生长→整形→切片→晶片研磨及磨边→蚀刻→抛光→硅片检测→打包B单晶生长→切片→整形→晶片研磨及磨边→蚀刻→抛光→硅片检测→打包C单晶生长→整形→切片→晶片研磨及磨边→抛光→蚀刻→硅片检测→打包D单晶生长→整形→蚀刻→抛光→硅片检测→切片→晶片研磨及磨边→打包
填空题硅片上的氧化物主要通过（）和（）的方法产生，由于硅片表面非常平整，使得产生的氧化物主要为层状结构，所以又称为（）。