单选题该义齿的后腭杆与模型腭部间的关系是（ ）。A腭杆离开模型2mmB腭杆与模型贴合C腭杆离开模型0.2mmD腭杆离开模型0.5～1mmE腭杆离开模型1.5mm
单选题
该义齿的后腭杆与模型腭部间的关系是（ ）。
A
腭杆离开模型2mm
B
腭杆与模型贴合
C
腭杆离开模型0.2mm
D
腭杆离开模型0.5～1mm
E
腭杆离开模型1.5mm
参考解析
解析：
后腭杆也可根据患者的敏感程度，适当调整其位置。在杆和黏膜之间可留有一定间隙，以免义齿下沉时，压迫黏膜而造成创伤和疼痛。
后腭杆也可根据患者的敏感程度，适当调整其位置。在杆和黏膜之间可留有一定间隙，以免义齿下沉时，压迫黏膜而造成创伤和疼痛。
相关考题：
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A不做处理，让患者把义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆