34、涂胶的目的是在硅片表面得到一层均匀覆盖的具有一定厚度的光刻胶薄膜。
34、涂胶的目的是在硅片表面得到一层均匀覆盖的具有一定厚度的光刻胶薄膜。
参考答案和解析
粘附性
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刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。A、二氧化硅B、氮化硅C、光刻胶D、去离子水
下列关于金属基底冠的设计中不正确的说法是（）A、以全冠形式覆盖基牙表面B、金属基底部分具有一定强度和厚度C、金属基底表面形态无尖锐棱角和边缘，轴面呈流线形D、基底冠各处尽量保证厚度均匀E、颈缘处连续光滑无菲
关于获得性膜，下列说法错误的是（）。A、乃菌斑形成初始，在牙面上覆盖的一层均匀无细胞的薄膜B、是细菌附着牙釉质表面的必需条件C、具有选择性吸附能力D、由菌斑微生物所分泌E、来自唾液糖蛋白结构
单选题下列关于金属基底冠的设计中不正确的说法是（）A以全冠形式覆盖基牙表面B金属基底部分具有一定强度和厚度C金属基底表面形态无尖锐棱角和边缘，轴面呈流线形D基底冠各处尽量保证厚度均匀E颈缘处连续光滑无菲
问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？