刻蚀方法有哪些?() A.化学刻蚀B.离子刻蚀C.电解刻蚀D.以上均不是

刻蚀方法有哪些?()

A.化学刻蚀

B.离子刻蚀

C.电解刻蚀

D.以上均不是


相关考题:

9、常见的干法刻蚀方法主要包括: 。A.等离子体刻蚀B.离子铣C.反应离子刻蚀D.氧化刻蚀

4、常见的干法刻蚀方法主要包括A.等离子体刻蚀B.离子铣C.反应离子刻蚀D.湿法刻蚀

在半导体制造工艺中有干法刻蚀和湿法刻蚀两种基本的刻蚀工艺。前者是小尺寸下刻蚀器件的最主要方法,后者一般只是用在大于3微米的情况下。

1、干法刻蚀技术的类型有A.物理性刻蚀B.化学性刻蚀C.物理化学性刻蚀D.氢氟酸溶液

晶体硅常用的刻蚀方法有干法刻蚀和湿法刻蚀()

1. 描述光刻过程的8个步骤。 2. 刻蚀的作用是什么?刻蚀分为哪两种方法?什么是刻蚀速率、刻蚀的均匀性、刻蚀的选择性。

干法刻蚀过程常见的终点检测方法有哪些?简要说明原理

用化学或物理的方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程,称为刻蚀。

什么是干法刻蚀?干法刻蚀相比于湿法腐蚀的优点有哪些?