在沉淀形成过程中,待测离子的半径相近的杂质离子常与待测离子一道与构晶离子形成() A、吸留B、混晶C、包藏D、后沉淀
在沉淀形成过程中,待测离子的半径相近的杂质离子常与待测离子一道与构晶离子形成()
A、吸留
B、混晶
C、包藏
D、后沉淀
相关考题：
控制酸度可提高EDTA滴定选择性的原因是:() A、降低杂质离子的浓度B、提高待测离子的浓度C、提高待测金属离子的KMYD、使杂质离子的KNY’降低到不能被滴定的程度E、使杂质离子形成另外一种稳定化合物
配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。 A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
返滴定法就是在待测溶液中加入能与EDTA形成稳定配合物的金属离子来沉淀待测离子，过量的沉淀剂用EDTA滴定，最后利用沉淀待测离子消耗沉淀剂的量，间接地计算出待测离子的含量