13、在沉淀形成过程中，与待测离子半径相近的杂质离子常与待测离子一道与构晶离子形成A．吸附共沉淀B．混晶共沉淀C．包藏共沉淀D．后沉淀
13、在沉淀形成过程中，与待测离子半径相近的杂质离子常与待测离子一道与构晶离子形成
A．吸附共沉淀
B．混晶共沉淀
C．包藏共沉淀
D．后沉淀
参考答案和解析
混晶
相关考题：
控制酸度可提高EDTA滴定选择性的原因是:() A、降低杂质离子的浓度B、提高待测离子的浓度C、提高待测金属离子的KMYD、使杂质离子的KNY’降低到不能被滴定的程度E、使杂质离子形成另外一种稳定化合物
用离子选择电极以校正曲线进行定量分析时，应要求（）。A、试样溶液与标准系列溶液的离子强度相一致B、试样溶液与标准系列溶液的离子强度大于1C、试样溶液与标准系列溶液中待测离子活度相一致D、试样溶液与标准系列溶液中待测离子强度相一致
在电位分析法中作为指示电极，其电位应（）A、与溶液中离子的活度呈Nernst响应B、与溶液中待测离子的活度呈Nernst响应C、与溶液中H+离子的活度呈Nernst响应D、与溶液中待测离子的活度呈线性响应
造成后沉淀的原因，说法错误的是（）。A、由于沉淀表面吸附了构晶离子B、由于沉淀表面吸附的构晶离子再吸附溶液中带相反电荷的杂质离子C、由于沉淀陈化的时间不够长D、由于在沉淀表面附近形成了过饱和溶液
配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
单选题在电位分析法中作为指示电极，其电位应（）A与溶液中离子的活度呈Nernst响应B与溶液中待测离子的活度呈Nernst响应C与溶液中H+离子的活度呈Nernst响应D与溶液中待测离子的活度呈线性响应
单选题如果共沉淀的杂质离子与沉淀的构晶离子半径相近，电荷相同，则易形成（）A表面吸附B混晶C机械吸留D后沉淀