单选题悬浮区熔法检验多晶硅中基磷含量时,采用快速区熔法的工艺时,第一次区熔时,第一区熔区停留挥发时间()左右。A3minB5minC7minD10min
单选题
悬浮区熔法检验多晶硅中基磷含量时,采用快速区熔法的工艺时,第一次区熔时,第一区熔区停留挥发时间()左右。
A
3min
B
5min
C
7min
D
10min
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在真空灭弧室中,对集聚型交流电弧,在()时因触头表面有面积和厚度相当大的熔区,这些熔区需要毫秒数量级的时间才能冷却,在这段时间内,电极仍向弧区输送大量金属蒸汽和带电粒子,在恢复电压上升的过程中,弧区相当一个充气间隙,不可避免地发生重新击穿。
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