简述胶囊抛光过程中设备的调节。
简述胶囊抛光过程中设备的调节。
相关考题：
有一种抛光方法，抛光后能得到的表面粗糙度一般为数10μm，它不需要复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率很高，它的难点是配制抛光液复杂。这种方法是（）。A、化学抛光B、超声波抛光C、磁研磨抛光D、机械抛光
填空题调节机架（），改变出料口与进料口的（），改变药品在抛光机中停留的时间。倾角越大，抛光时间（），反之（）。