()不是晒版时造成之错误A、图纹反晒B、曝光时间不对C、版与印纹移位D、底片精细度

()不是晒版时造成之错误

  • A、图纹反晒
  • B、曝光时间不对
  • C、版与印纹移位
  • D、底片精细度

相关考题:

比曝光测试表细小图纹晒版时可()A、加长曝光时间B、略少于测试标准时间C、维持测试标准时间

炭素纸的晒版中,已敏化的碳素版需进行()曝光。A、先晒阳图,后晒网目的两次B、先晒网目,后晒阳图的两次C、同时晒网目和阳图D、晒版

晒版时间不足较会造成()A、图纹缩小B、薄膜或败版C、锯齿状D、错网

()非造成直接版冲版后,印纹仍残留异物乳剂A、再生网版残墨B、乳剂内含异物C、产生针孔D、原稿底片有针孔

晒版后()无图纹潜像。A、过度曝晒B、曝光不足C、未晒版前曝光D、未放置底片

晒版机上之全光及半光其功能为()A、水性版采半光B、油性版采半光C、油性版采全光D、视乳剂感度及图纹而定

明室覆片机是()A、晒版机械B、冲洗底片机械C、翻制底片机D、间接版晒版机

()不是冲版不良所造成A、图纹堵塞或败版B、图纹扩大C、图纹缩小D、针孔

()不是晒版时版与底片移位,或重复曝光所产生之不良现象。A、版纹不清B、版纹冲不掉C、双重影像D、锯齿状

于宽容度允许时间内晒版长短不会影响()A、图纹分辨率B、针孔C、版膜坚牢度D、冲版显影

晒版前发现底片有瑕疵应()A、重新制作或修正底片B、制版后修正C、减少曝光时间D、加强曝光时间

以下()不是过度曝光所造成A、不易显影B、图纹缩小C、图纹变形D、图纹冲不出

()会造成版纹脱落A、曝光过度B、乳剂涂后烘干温度过高C、未晒前曝光D、冲版不当

满版印刷是指()A、有多幅图纹B、较大的印版C、图纹为整块D、色面印纹晕开

()不是制版后处理所造成之缺失。A、裱框离图纹太近B、补框边胶沾着图纹C、补版胶在被印物面做修补D、版膜太薄

版纹不易冲掉所述()是错误的A、底片浓度低B、晒版过度C、水压不足D、图纹太大

晒版前发现版面小部份有瑕疵时应()A、用剥膜膏修整B、用补版胶修补C、将晒版底片印纹躲开瑕疵D、可以不加理会

版膜未干即晒版会()A、败版B、版膜较厚C、印纹较细D、版膜冲不掉

网版图纹显像不佳之原因,以下叙述()错误A、曝光过度B、原稿底片对比反差高C、使用白色网布D、网版涂布乳剂后存放时间过长

()较无法于晒版时控制。A、膜厚B、错网C、图纹角度D、曝光强度

晒版曝光时应考虑()A、印纹放置位置B、被印物种类C、涂布的精密度D、成本

()不是晒版台不干净所造成的。A、针孔B、败版C、锯齿状D、版纹漏失

晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和()A、阳图晒版B、反像晒版C、阴图晒版D、PS版晒版

直间接晒版以下所述()错误A、曝光过度版纹冲版不易B、曝光不足版膜较薄C、直间接感光胶片可以水贴合D、直间接胶片感光后再贴

平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应

单选题晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和()A阳图晒版B反像晒版C阴图晒版DPS版晒版

单选题平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A防止不应曝光的部位曝光B保证印版与底片密合C减少曝光时间D防止印版药膜发生化学反应