平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应

平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。

  • A、防止不应曝光的部位曝光
  • B、保证印版与底片密合
  • C、减少曝光时间
  • D、防止印版药膜发生化学反应

相关考题:

下列对PS版的有关表述中,不正确的是( )。A.PS版即预涂感光版,是一种预先涂布感光层以供晒版的感光版B.PS版的感光层可以分为光分解型和光聚合型C.国内常用的阳图PS版的感光层是光聚合型D.平版印刷主要用PS版作为印版

当PS版和无水平版以相同的油墨厚度印刷时,无水平版油墨要干得快一些。

版基是印版图文的载体,起着支撑印刷图文的作用,而我们在平版晒版中所使用的PS版属于金属版基。

简述柔性版印刷晒版底片的工艺要求。

丝网版的曝光制版()进行。A、必须在专用晒版机上B、必须在平版晒版机上C、可在所有晒版机上D、也可在平版晒版机上

当前,平版胶印中,PS版的制版流程是:()A、数字文件→激光照排→晒版→显影→冲洗B、数字文件→晒版→激光照排→显影→冲洗C、数字文件→激光照排→显影→晒版→冲洗D、数字文件→显影→冲洗→晒版→激光照排

阳图型无水平版晒版时,使用的光源和阳图型PS版相同。

网版计算机数字化无底片制版是()A、于网印版上直接喷图文再晒版B、以稿纸绘图后成为底片C、投影晒版D、手工制版

()不是晒版时造成之错误A、图纹反晒B、曝光时间不对C、版与印纹移位D、底片精细度

明室覆片机是()A、晒版机械B、冲洗底片机械C、翻制底片机D、间接版晒版机

()不是晒版时版与底片移位,或重复曝光所产生之不良现象。A、版纹不清B、版纹冲不掉C、双重影像D、锯齿状

箱型晒版机若灯源在下方则()A、底片在版面下方B、底片在版面上方C、底片药膜面朝下D、印版刮印面朝下

晒版前发现版面小部份有瑕疵时应()A、用剥膜膏修整B、用补版胶修补C、将晒版底片印纹躲开瑕疵D、可以不加理会

布花版晒版定位感光时应()A、每色版及底片皆定位B、底片固定每色版上下不定位C、每色版固定而每色底片不定位D、视情况

晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和()A、阳图晒版B、反像晒版C、阴图晒版D、PS版晒版

PS版晒版的基本工艺流程是什么?

简述阳图型PS版晒版的工艺流程。

平版制版的主要过程:网目正片、晒版、显影、腐蚀、()、PS版、打样。A、定影B、冲洗C、图布感光液D、除膜

问答题PS版晒版的基本工艺流程是什么?

单选题下列对PS版的有关表述中,不正确的是(  )。[2003年真题]APS版即预涂感光版,是一种预先涂布感光层以供晒版的感光版BPS版的感光层可以分为光分解型和光聚合型C国内常用的阳图PS版的感光层是光聚合型D平版印刷主要用PS版作为印版

判断题阳图型无水平版晒版时,使用的光源和阳图型PS版相同。A对B错

单选题平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A防止不应曝光的部位曝光B保证印版与底片密合C减少曝光时间D防止印版药膜发生化学反应

问答题简述柔性版印刷晒版底片的工艺要求。

判断题版基是印版图文的载体,起着支撑印刷图文的作用,而我们在平版晒版中所使用的PS版属于金属版基。A对B错

单选题丝网版的曝光制版()进行。A必须在专用晒版机上B必须在平版晒版机上C可在所有晒版机上D也可在平版晒版机上

不定项题当前,平版胶印中,PS版的制版流程是:()A数字文件→激光照排→晒版→显影→冲洗B数字文件→晒版→激光照排→显影→冲洗C数字文件→激光照排→显影→晒版→冲洗D数字文件→显影→冲洗→晒版→激光照排

单选题平版制版的主要过程:网目正片、()、显影、腐蚀、冲洗、PS版、打样。A晒版B定影C图布感光液D除膜