双缝干涉和多缝干涉的干涉条纹的区别是什么?

双缝干涉和多缝干涉的干涉条纹的区别是什么?


相关考题:

若用一片透明的云母片将杨氏双缝装置中的上面一条缝盖住,则( )。A.干涉条纹不变B.干涉图样反差C.干涉条纹上移D.干涉条纹下移

某同学做双缝干涉实验,开始两缝宽度相等,出现了清晰的干涉条纹;然后他将其中一缝的宽度略微调窄,且保持两缝的中心位置不变,则()。A.干涉条纹间距变宽B.干涉条纹间距变窄C.干涉条纹间距不变D.不能发生干涉现象

红光和紫光通过双缝干涉条纹的相同处是(),不同处是().白光形成的双缝干涉条纹的中央是(),外侧是()

在杨氏双缝干涉实验中,缝距为d,缝屏距为D,屏上干涉条纹的间距为Δy。现将缝距减小一半,则干涉条纹的间距为()

在双缝干涉实验中,用透明的云母片遮住上面的一条缝,则()。A、干涉图样不变B、干涉图样下移C、干涉图样上移D、不产生干涉条纹

在杨氏双缝干涉实验中,用一薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()

在杨氏双缝干涉试验中,如果波长变长,则()A、干涉条纹之间的距离变大B、干涉条纹之间的距离变小C、干涉条纹之间的距离不变D、干涉条纹变红

若用一张薄云母片将杨氏双缝干涉试验装置的上缝盖住,则()A、条纹上移,但干涉条纹间距不变B、条纹下移,但干涉条纹间距不变C、条纹上移,但干涉条纹间距变小D、条纹上移,但干涉条纹间距变大

在保持入射光波长和缝屏距离不变的情况下,将杨氏双缝的缝距减小,则()A、干涉条纹宽度将变大B、干涉条纹宽度将变小C、干涉条纹宽度将保持不变D、给定区域内干涉条纹数目将增加

试论述单色光双缝干涉,单缝衍射和光栅衍射条纹的区别

在杨氏双缝干涉实验中,如果光源缝慢慢张开,则()A、条纹间距减小B、干涉条纹移动C、可见度下降D、干涉条纹没有变化

双缝干涉实验中,若增大其中一缝的宽度,干涉条纹将发生变化()A、干涉条纹位置改变B、干涉条纹间距发生改变C、干涉条纹可见度改变D、干涉条纹形状发生改变

在双缝干涉实验中,用单色自然光在屏上形成干涉条纹。若在两缝后放一个偏振片则()A、干涉条纹间距不变,且明纹亮度加强B、干涉条纹间距不变,但明纹亮度减弱C、干涉条纹的间距变窄,且明纹的亮度减弱D、无干涉条纹

在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则干涉图样如何变化?()A、干涉图样不变B、干涉图样下移C、干涉图样上移D、不产生干涉条纹

在双缝干涉实验中,单色自然光垂直入射到双缝上,在屏上形成干涉条纹。若在双缝与屏之间放一个偏振片使由两缝出射的光线均通过此片,则屏上的情况是()。A、干涉条纹的间距不变,但明纹的亮度加强B、干涉条纹的间距不变,但明纹的亮度减弱C、干涉条纹的间距变窄,且明纹的亮度减弱D、无干涉条纹

在双缝干涉实验中,用单色光自然光在屏上形成干涉条纹,若在两缝后面放一块偏振片,则()A、干涉条纹间距不变,但明条纹亮度加强B、干涉条纹间距不变,但明条纹亮度减弱C、干涉条纹间距变窄,且明条纹亮度减弱D、无干涉条纹

填空题在杨氏双缝干涉实验中,缝距为d,缝屏距为D,屏上干涉条纹的间距为Δy。现将缝距减小一半,则干涉条纹的间距为()

单选题双缝干涉实验中,若增大其中一缝的宽度,干涉条纹将发生变化()A干涉条纹位置改变B干涉条纹间距发生改变C干涉条纹可见度改变D干涉条纹形状发生改变

单选题某同学做双缝干涉实验,开始两缝宽度相等,出现了清晰的干涉条纹;然后他将其中一缝的宽度略微调窄,保持两缝的中心位置不变,则( )。A干涉条纹间距变宽B干涉条纹间距变窄C干涉条纹间距不变D不能发生干涉现象

问答题双缝干涉和多缝干涉的干涉条纹的区别是什么?

单选题在杨氏双缝干涉试验中,如果波长变长,则()A干涉条纹之间的距离变大B干涉条纹之间的距离变小C干涉条纹之间的距离不变D干涉条纹变红

填空题红光和紫光通过双缝干涉条纹的相同处是(),不同处是().白光形成的双缝干涉条纹的中央是(),外侧是()

单选题在杨氏双缝干涉实验中,如果光源缝慢慢张开,则()A条纹间距减小B干涉条纹移动C可见度下降D干涉条纹没有变化

填空题在杨氏双缝干涉实验中,用一个薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()。

填空题在杨氏双缝干涉实验中,用一薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()

单选题在双缝干涉实验中,用单色自然光在屏上形成干涉条纹。若在两缝后放一个偏振片则( )。A干涉条纹间距不变,且明纹亮度加强B干涉条纹问距不变,但明纹亮度减弱C干涉条纹的间距变窄,且明纹的亮度减弱D无干涉条纹

单选题在杨氏双缝干涉实验中,如果用薄云母片盖住下缝,则干涉条纹将()。A条纹上移,干涉条纹之间的距离不变B条纹上移,干涉条纹之间的距离变小C条纹下移,干涉条纹之间的距离不变D条纹下移,干涉条纹之间的距离变大