未经过硫化处理的新触媒和经过硫化处理的新触媒在相同“饱和”操作条件下放出的热量大小基本相等。

未经过硫化处理的新触媒和经过硫化处理的新触媒在相同“饱和”操作条件下放出的热量大小基本相等。


相关考题:

相同质量的石墨和金刚石,在相同条件下燃烧时放出的热量相等。() 此题为判断题(对,错)。

铁锰槽触媒达到了饱和可以进行再生处理来增大触媒活性。() 此题为判断题(对,错)。

有机硫加氢催化剂(HT-202/JT-8铁钼触媒)在使用前必须进行硫化预处理。() 此题为判断题(对,错)。

23#触媒如何硫化?

怎样判断铁钼触媒达到饱和?如何处理?

23#催化剂为什么要硫化()A、使氧化态触媒还原,得到活性。B、使触媒变成氧化态,提高活性成分。C、使触媒中的硫得到释放。

23#触媒硫化时,触媒温升至()通入CS2补入量控制在()。

有机硫加氢催化剂(HT-202/JT-8铁钼触媒)在使用前没有必须进行硫化预处理

新触媒其内部都含有一定的水份,这部分水份若不除去,会影响触媒的强度,所以新触媒升温一般在120℃以下,都控制升温速率比较慢,且在120℃时还要恒温一段时间,以使触媒的吸附水全部释放出来,若是旧触媒升温速率还可快一些

钒触媒“饱和”操作要点是什么?

旧触媒与新触媒装在同一层时,旧触媒应装在新触媒的下部,其原因是()。A、旧触媒阻力较大B、旧触媒高温活性较高C、旧触媒低温活性衰退D、旧触媒活性较低

变换触媒硫化升温阶段,触媒层温度控制在150℃—220℃之间

新触媒通HCl活化时间在6~8h,出口HCl纯度基本接近进口的HCl纯度。

合成塔使用新触媒,必须严格遵守触媒升温还原操作方案。

触媒升温还原时为什么一定要控制升温速度,快一点不更好吗()A、新触媒其内部都含有一定的水份,这部分水份若不除去,会影响触媒的强度,所以新触媒升温一般在120℃以下,都控制升温速率比较慢,且在120℃时还要恒温一段时间B、在触媒还原阶段,也要控制一定的升温速率,这是为了使触媒还原均匀彻底,若升温过快,触媒活性会受到影响C、触媒升温还原一定要快D、对于设备和管道若升温速率过快,会使其强度下降,寿命缩短。温升速度快一些,不会立即显示出什么坏处来,但从长远看,不利于设备及触媒的使用寿命

怎样判断锰槽触媒达到了饱和?如何处理?

含有机硫的原料气体(烃类)在一定条件下,通过铁钼触媒,使有机硫化物转化为无机硫化物,经脱硫剂吸收而脱除。

有机硫加氢催化剂(HT-202/JT-8铁钼触媒)在使用前必须进行硫化预处理。

触媒剂的硫化反应是吸热反应。

进转化工段焦炉气总硫为什么必须控制在0.1PPm以下()A、因为合成触媒和甲烷化触媒昂贵,对入口硫含量要求苛刻B、若ZnO槽出口总硫过高,不会使合成触媒和CH4转化触媒中毒失去活性C、若ZnO槽出口总硫过高,必然会使合成触媒和CH4转化触媒中毒失去活性D、总硫高不会造成重大经济损失

原料气不经过脱硫处理直接入工艺系统易导致()。A、水碳比过小B、转化触媒硫中毒C、触媒粉碎D、转化反应不彻底

因为合成触媒和甲烷化触媒昂贵,对入口硫含量要求苛刻,若ZnO槽出口总硫过高,必然会使合成触媒和CH4转化触媒中毒失去活性,从而造成重大经济损失,所以必须控制ZnO槽出口总硫在0.2PPm以下

甲醇合成触媒的硫中毒是一种累积性中毒,触媒活性随硫化物的增加而下降。

23#触媒硫化时的标志是()。

23#触媒硫化时使用的硫化剂是()

填空题23#触媒硫化时,触媒温升至()通入CS2补入量控制在()。

问答题怎样判断铁钼触媒达到饱和?如何处理?