非相关显示不是来源于缺陷,但却是由漏磁场产生的。

非相关显示不是来源于缺陷,但却是由漏磁场产生的。


相关考题:

非相关磁痕由漏磁场产生。() 此题为判断题(对,错)。

相关显示是由于缺陷漏磁场与磁粉相互作用的结果。

相关显示是由缺陷产生的漏磁场吸附磁粉形成的,非相关显示不是由漏磁场产生的。

关于磁痕显示的叙述,正确的是()A、非相关显示不是由漏磁场吸附磁粉磁粉形成的B、表面缺陷磁痕一般宽而模糊、轮廓不清晰C、近表面缺陷磁痕一般浓密清晰、瘦直或弯曲D、以上都不对

缺陷的深宽比越大,产生的漏磁场也就()。

相关显示与非相关显示是由漏磁场形成的磁痕显示,而伪显示不是由漏磁场形成的磁痕显示。

关于漏磁场的叙述,正确的是()A、缺陷漏磁场的大小与缺陷方向无关B、缺陷漏磁场的大小与缺陷方向有关C、缺陷平行于磁力线方向时,则漏磁场最大D、缺陷漏磁场的大小与磁力线方向无关

相关显示是由漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示。

以下关于漏磁场的叙述中,错误的是()A、缺陷方向与磁力线平行时,漏磁场最大B、漏磁场的大小与工件的材质无关C、漏磁场的大小与缺陷的深宽比有关D、工件表层下缺陷所产生的漏磁场,随缺陷的埋藏深度增加而增大

下列关于漏磁场的叙述,正确的是()。A、内部缺陷处的漏磁场比同样大小的表面缺陷漏磁场大B、缺陷的漏磁场通常与试件上的磁场强度成反比C、表面缺陷的漏磁场,随离开表面的距离增大而急剧下降D、有缺陷的试件,才会产生漏磁场

下列关于漏磁场的叙述中,正确的是()A、缺陷方向与磁力线平行时,漏磁场最大B、漏磁场的大小与工件的磁化程度无关C、漏磁场的大小与缺陷的深度和宽度的比值有关D、工件表层下,缺陷所产生的漏磁场,随缺陷的埋藏深度增加而增大

下面关于漏磁场的描述中,正确的是()A、与缺陷的深宽比有关B、内部缺陷所产生的漏磁场随缺陷埋藏深度的增加而加大C、漏磁场随着工件内磁感应强度的增加而减小D、缺陷平行于磁场方向时漏磁场最小E、A和D是对的

材料中存在表面缺陷和近表面缺陷,磁化后会在缺陷附近产生一磁场,该磁场称为()。A、剩磁场B、磁化磁场C、漏磁场D、感应磁场

材料中存在表面和近表面缺陷,磁化后会在缺陷附近产生一磁场,该磁场称为漏磁场。

非相关磁痕由漏磁场产生。

判断题相关显示是由漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示。A对B错

单选题下列关于漏磁场的叙述中,正确的是()A缺陷方向与磁力线平行时,漏磁场最大B漏磁场的大小与工件的磁化程度无关C漏磁场的大小与缺陷的深度和宽度的比值有关D工件表层下,缺陷所产生的漏磁场,随缺陷的埋藏深度增加而增大

单选题下面关于漏磁场的描述中,正确的是()A与缺陷的深宽比有关B内部缺陷所产生的漏磁场随缺陷埋藏深度的增加而加大C漏磁场随着工件内磁感应强度的增加而减小D缺陷平行于磁场方向时漏磁场最小EA和D是对的

单选题下列关于漏磁场的叙述,正确的是:()A内部缺陷处的漏磁场比同样大小的表面缺陷漏磁场大B缺陷的漏磁场通常与试件上的磁场强度成反比C表面缺陷的漏磁场,随离开表面的距离增大而急剧下降D有缺陷的试件,才会产生漏磁场

判断题相关显示是由于缺陷漏磁场与磁粉相互作用的结果。A对B错

判断题非相关显示不是来源于缺陷,但却是由漏磁场产生的。A对B错

单选题下列关于漏磁场的叙述中,正确的是()A缺陷方向与磁力线平行时,漏磁场最大B漏磁场的大小与工件的磁化程度无关C漏磁场的大小与缺陷的深度比有关D工件表层下,缺陷所产生的漏磁场,随缺陷的埋藏深度增加而增大

判断题非相关磁痕由漏磁场产生。A对B错

判断题相关显示与非相关显示是由漏磁场形成的磁痕显示,而伪显示不是由漏磁场形成的磁痕显示。A对B错

判断题相关显示是由缺陷产生的漏磁场吸附磁粉形成的,非相关显示不是由漏磁场产生的。A对B错

单选题关于显示说法正确的是()。A表面没有缺陷处看到的磁痕肯定是伪显示B相关显示是由漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示,影响工件的使用性能C非相关显示不是由漏磁场产生的,影响工件的使用性能D伪显示不是由漏磁场产生的,影响工件的使用性能

单选题关于磁痕显示的叙述,正确的是()A非相关显示不是由漏磁场吸附磁粉磁粉形成的B表面缺陷磁痕一般宽而模糊、轮廓不清晰C近表面缺陷磁痕一般浓密清晰、瘦直或弯曲D以上都不对