为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求,金属材料应该满足()。A、低电阻率B、易与p或n型硅形成欧姆接触C、可与硅或二氧化硅反应D、易于光刻E、便于进行键合
为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求,金属材料应该满足()。
- A、低电阻率
- B、易与p或n型硅形成欧姆接触
- C、可与硅或二氧化硅反应
- D、易于光刻
- E、便于进行键合
相关考题:
选择围堰类型时,必须根据当时当地具体条件,在满足()的原则下进行。A、具有良好的技术经济指标B、安全可靠,能满足稳定、抗渗、抗冲要求C、结构简单,施工方便,易于拆除D、充分考虑材料回收利用E、堰基易于处理,堰体便于与岸坡或已有建筑物连接
非晶硅太阳能电池的基本构造是下列的哪种?()A、梳状电极→减反膜→n型硅→p型硅→反电极B、梳状电极→TCO→p型硅→i型硅→n型硅→SSC、梳状电极→TCO→n型硅→p型硅→i型硅→导电玻璃D、梳状电极→TCO→p型硅→n型硅→i型硅→SS
填空题肖特基接触呈现(),肖特基结的高低由()差决定;欧姆接触呈现()特性,接触电阻可以低到10-7欧姆·厘米。IC的互连线金属要求与半导体衬底实现(),所以,源、漏、多晶硅等的掺杂浓度必须高于()。
多选题可采取下列方法降低接地电阻:()。A将垂直接地体深埋到低电阻率的土壤中或扩大接地体与土壤的接触面积B置换成低电阻率的土壤C采用降阻剂或新型接地材料D采用多根导体外引