具有超前调节作用,能克服被控参数调节过程的滞后现象的是( )。 A、微分B、积分C、比例D、无法确定

具有超前调节作用,能克服被控参数调节过程的滞后现象的是( )。

A、微分

B、积分

C、比例

D、无法确定

相关考题：

被控对象的容量滞后和纯滞后不大,负荷常有较大波动,工艺要求被控变量达到无余差,应采用( )。 A.P调节B.PD调节C.PID调节D.PI调节

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PI调节器是一种()校正装置。 A、相位超前B、相位滞后C、相位滞后-超前D、相位超前-滞后

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被控对象在受到输入作用后,被控变量不能立即而迅速的变化,这种现象称为() A、容量滞后B、滞后现象C、传递滞后D、滞后时间

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具有“超前”调节作用的调节规律是()。 A、PB、PIC、PDD、两位式

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8、超前滞后校正器设计函数leadlagc（)需要被控对象的下列哪些参数？A．剪切频率B．超调量C．上升时间D．相位裕度

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对具有大的纯滞后被控对象，采用常规的PID控制算法会产生什么现象？

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9、Smith预估控制算法解决被控对象具有（）的问题。A．扰动B．余差C．滞后D．超前

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3、对具有大的纯滞后被控对象，采用常规的PID控制算法会产生什么现象？

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【单选题】2. 关于P、I、D控制规律的选择，下列说法错误的是A．P控制适用于滞后较小、负荷变化不大，无余差要求的被控对象B．PI控制适用于滞后小、负荷变化不大，不允许有余差的被控对象C．PD控制适用于温度、成分等容量滞后的对象D．微分具有超前调节作用，所以PD和PID可以适用于具有纯滞后的系统

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