单选题半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后禁止使用哪种技术处理铸件表面,去除表面的氧化层()A玻璃刷处理B超声清洗C喷砂技术D橡皮轮抛光E布轮抛光

单选题
半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后禁止使用哪种技术处理铸件表面,去除表面的氧化层()
A

玻璃刷处理

B

超声清洗

C

喷砂技术

D

橡皮轮抛光

E

布轮抛光


参考解析

解析: 暂无解析

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下列关于冠内附着体固位与稳定的叙述,错误的是A、附着体阴性结构与阳性结构接触面积与固位力成正比B、附着体阴性结构与阳性结构接触密合程度与固位力成正比C、义齿的稳定性决定于栓体与栓道侧壁间的密合程度D、自制附着体阴性结构即栓道的轴壁形态对固位力有影响E、精密附着体在义齿制作过程中,附着体预成品,通过包埋、铸造、研磨等工序,会影响附着体阴性结构和阳性结构的密合度,影响附着体固位

根据附着体放置部位的不同,半精密附着体可分为A、磁性附着体和吸力式附着体B、冠内半精密附着体和冠外半精密附着体C、成品附着体和自制附着体D、冠内半精密附着体和牙根内半精密附着体E、摩擦机械式附着体和摩擦式附着体

半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后处理铸件表面,去除表面的氧化层,禁止使用的技术是A、玻璃刷处理B、超声清洗C、喷砂技术D、橡皮轮抛光E、布轮抛光

半精密附着体制作过程中,附着体的阳性部件或阴性部件与金属支架连接的方式错误的是A、整体铸造B、激光焊接C、树脂链接D、点焊E、熔焊

游离端可摘义齿设计采用附着体作固位体时,应选择哪种附着体,有利于维持基牙健康和修复后远期效果( )。A、刚性附着体B、半精密附着体C、弹性冠外附着体D、冠内附着体E、精密附着体

50~100μm的氧化铝主要用于A、贵金属基底冠的粗化B、半贵金属基底冠的粗化C、非贵金属基底冠的粗化D、去除铸件表面的包埋料E、去除铸件表面在铸造过程中形成的氧化膜

在精密附着体的制作过程中,测量基牙的倾斜度,目的是A、确定义齿的共同就位道B、去除基牙倒凹C、选择基牙D、选择附着体的类型E、设计附着体的位置

金属基底冠铸造后的处理步骤正确的是A.去除铸件表面的包埋料B.表面机械处理、抛光C.清洁处理D.表面酸蚀处理E.除气、预氧化

安置在基牙部分的附着体阴性结构镶嵌在基牙牙冠内,不突出牙冠外,附着体阳性结构设置在义齿上。此种附着体为A、冠外附着体B、半精密附着体C、弹性附着体D、冠内附着体E、精密附着体

半精密附着体制作过程中,附着体的阳性部件或阴性部件与金属支架的连接的方式不正确的是( )。A、整体铸造B、激光焊接C、树脂链接D、点焊E、熔焊

下列关于电极头的氧化层,说法错误的是()A、电极头表面的氧化层,对于点焊的焊点的质量影响非常大,一定要经常确认,并且去除B、点焊在焊接过程中,一定会产生电极头表面的氧化层C、电极头表面的氧化层,只需要在焊接前去除就好,中间焊接的时候不需要理会D、针对电极头表面的氧化层,可以使用锉刀去除,也可以使用粗砂纸去除

根据附着体制作工艺,半精密附着体可分为()A、磁性附着体和吸力式附着体B、冠内半精密附着体和冠外半精密附着体C、成品附着体和自制附着体D、冠内半精密附着体和牙根内半精密附着体E、摩擦机械式附着体和摩擦式附着体

半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后禁止使用哪种技术处理铸件表面,去除表面的氧化层()A、玻璃刷处理B、超声清洗C、喷砂技术D、橡皮轮抛光E、布轮抛光

根据附着体阴性和阳性部分之间结合形式可分为()A、刚性附着体和弹性附着体B、精密附着体和半精密附着体C、成品附着体和自制附着体D、冠内附着体和冠外附着体E、球铰链式附着体和非球铰链式附着体

单选题根据附着体放置部位的不同,半精密附着体可分为()A磁性附着体和吸力式附着体B冠内半精密附着体和冠外半精密附着体C成品附着体和自制附着体D冠内半精密附着体和牙根内半精密附着体E摩擦机械式附着体和摩擦式附着体

单选题50~100μ;m的氧化铝主要用于()A贵金属基底冠的粗化B半贵金属基底冠的粗化C非贵金属基底冠的粗化D去除铸件表面的包埋料E去除铸件表面在铸造过程中形成的氧化膜

单选题铸造完成后关于铸件表面的处理,下列叙述不正确的是()。A非贵金属铸件表面的氧化层多使用喷砂机进行表面清理B贵金属表面氧化层多采用酸处理法,酸处理法是将铸件放入盛有稀HCl溶液的金属坩埚内加热处理直到近沸点,维持30minC利用喷砂机喷砂时应经常转动铸件,使各个面都能均匀地接触清扫D液体喷砂无粉尘污染,其压缩空气的压力应控制在7~8kpa,金刚砂的粒度80目左右E若无喷砂机,钴铬合金可采取碱煮的方法对铸件表面进行清洗

单选题安置在基牙部分的附着体阴性结构镶嵌在基牙牙冠内,不突出牙冠外,附着体阳性结构设置在义齿上。此种附着体为()A冠外附着体B半精密附着体C弹性附着体D冠内附着体E精密附着体

单选题半精密附着体制作过程中,附着体的阳性部件或阴性部件与金属支架的连接的方式不正确的是(  )。A整体铸造B激光焊接C树脂链接D点焊E熔焊

单选题根据附着体制作工艺,半精密附着体可分为()A磁性附着体和吸力式附着体B冠内半精密附着体和冠外半精密附着体C成品附着体和自制附着体D冠内半精密附着体和牙根内半精密附着体E摩擦机械式附着体和摩擦式附着体

单选题半精密附着体制作过程中,附着体的阳性部件或阴性部件与金属支架的连接方式错误的是()A整体铸造B激光焊接C树脂连接D点焊E熔焊

单选题半精密附着体制作过程中,附着体的阴性部件在铸造完毕后处理铸件表面,去除表面的氧化层,禁止使用的技术是()A玻璃刷处理B超声清洗C喷砂技术D橡皮轮抛光E布轮抛光

单选题50~100p;micro;m的氧化铝主要用于()。A贵金属基底冠的粗化B半贵金属基底冠的粗化C非贵金属基底冠的粗化D去除铸件表面的包埋料E去除铸件表面在铸造过程中形成的氧化膜