在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐取代了局部氧化LOCOS所制成的（）而成为相邻电子元件的绝缘体A、栅氧化层B、沟槽C、势垒D、场氧化层
抑制法灭火原理是（）.A、隔离可燃物B、夺取助燃的游离基C、隔离空气
将会造成错误的原因从根本上排除掉，使绝不发生错误，这是（）原理。A、保险原理B、重复原理C、缓和原理D、断根原理E、隔离原理
差错预防的应用原理（）。A、保险原理B、重复原理C、缓和原理D、顺序原理E、隔离原理
资产证券化的运作机制中所包含的基本原理不包括（）。A、资产重组原理B、信用增级原理C、风险隔离原理D、集合投资原理
资产证券化的运作机制中所包含的基本原理包括（）。①资产重组原理②风险隔离原理③集合投资原理④信用增级原理⑤风险转移原理A、①②③B、①②④C、①②③④D、①③④⑤
填空题对于CMOS集成电路，通常器件间的电性绝缘采用介质绝缘的方式，如LOCOS（）或STI（）
问答题什么是LOCOS和STI（写中英文全称），为什么在高级IC中STI取代了LOCOS，列举STI的工艺步骤。
多选题差错预防的应用原理（）。A保险原理B重复原理C缓和原理D顺序原理E隔离原理
问答题简述仔猪的早期隔离断奶（SEW）的概念及原理。
填空题选择性氧化常见的有（）和（），其英语缩略语分别为LOCOS和（）。
问答题根据空气洁净技术原理，隔离有哪几种及各自的原理。