某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）。A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）。
- A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
- D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接
- E、取印模重新制作支架
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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是 ( )A.将后腭杆切割，调整正确位置后焊接B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲，不做任何处理D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合E.取印模重新制作支架
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A、不做处理，让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（ ）。A腭杆组织面加自凝树脂重衬B不做处理，让患者将义齿戴走C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题初戴上颌局部义齿时，发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm，处理方法是（ ）。A不必处理B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D去除腭杆，让患者戴走E取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A不做处理，让患者将义齿戴走B腭杆组织面加自凝树脂重衬C腭杆组织面缓冲D取下腭杆E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（ ）。A取下腭杆B腭杆组织面缓冲C腭杆组织面加自凝树脂重衬D不做任何处理E取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆