填空题物理气相沉积薄膜的方法主要有()、()和()三种。
填空题
物理气相沉积薄膜的方法主要有()、()和()三种。
参考解析
解析:
暂无解析
相关考题:
利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)
单选题利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A物理气相沉积(PVD)B物理气相沉积(CVD)C化学气相沉积(VCD)D化学气相沉积(CVD)
单选题在大马士革铜工艺中,铜薄膜通常采用()方式获得。A物理气相沉积B化学气相沉积C电化学镀D热氧化