质量传递的基本方式包括()。 A、分子扩散B、分子传质C、对流传质D、辐射
当前用于描述气—液两相流相间传质的模型有按非稳态扩散处理模型,如()。 A、双膜模型B、溶质渗透模型C、溶剂渗透模型D、表面更新模型
下面关于气液相间传质双膜模型说法正确的是()A、怀特曼(Whitman)于1923年提出B、在气液接触传质时，气液相间存在稳定的界面，界面两侧分别有一层稳定、停滞的气液膜C、气液在界面上达到平衡，在膜内为分子扩散，传质系数正比于分子扩散系数，传质阻力集中于膜内D、该模型强调气液相间存在稳定界面和稳定的当量膜，对湍动程度较高的流动接触情况，界面随机变化不断更新，与该模型的假设相差较大，导致该模型在使用中出现缺陷，解决的方法是对模型进行改进，如表面更新和溶质渗透理论等
采用毛细管色谱柱时，色谱速率理论中的（）项可以忽略不计。A、涡流扩散B、分子扩散C、传质阻力D、气液交换
HPLC中，对柱效影响可以忽略不计的因素是（）A、固定相传质阻力B、纵向扩散C、涡流扩散D、流动相传质阻力
吸收过程中传质的基本方式中（）是湍流流体的主体与相界面之间的涡流扩散与分子扩散这两种传质作用的总称。A、传导B、混合C、扩散D、对流扩散
由于分子的无规则热运动而形成的物质传递现象为（）。A、热传质B、涡流扩散C、对流传质D、扩散传质
传质的基本方式是（）。A、热传质B、涡流扩散C、对流传质D、扩散传质
最基本的两种扩散过程是（）。A、相间传质B、等摩尔反向传质C、相际传质D、通过停滞的B组分层的传质
传质的方式主要有（）。A、分子扩散传质B、对流传质C、加热D、冷却
烧结的主要传质方式有蒸发-凝聚传质、扩散传质、流动传质和溶解-沉淀传质四种，产生这四种传质的原因依次为（）、（）、（）和（）。
载体填充的均匀程度主要影响（）。A、涡流扩散B、分子扩散C、气相传质阻力D、液相传质阻力
当前用于描述气—液两相流相间传质的模型有两大类：一是按稳态扩散来处理的（）；一是按非稳态扩散处理模型，如（）和（）。
双膜模型把复杂的相间传质过程模拟成串联的稳定的双膜分子扩散过程的叠加，相间传质总阻力等于（）。
填空题浸出法制油过程实质是传质过程，其传质过程是由（）和对流扩散共同完成的。
填空题烧结的主要传质方式有蒸发-凝聚传质、扩散传质、流动传质和溶解-沉淀传质四种，产生这四种传质的原因依次为（）、（）、（）和（）。
单选题以扩散传质为主的烧结中，在烧结中期的模型是（）A中心距不变的双球模型B中心距变大的双球模型C中心距变小的双球模型D十四面体模型
单选题载体填充的均匀程度主要影响（）A涡流扩散B分子扩散C气相传质阻力D液相传质阻力
单选题下列哪种传质方式的特点是中心距不变的双球模型（）A扩散传质B流变C溶解-沉淀D蒸发－凝聚
单选题蒸发－凝聚传质采用的模型是（）A中心距不变的双球模型B中心距变大的双球模型C中心距变小的双球模型D单球模型
判断题根据对流传质模型中的薄膜理论，对流传质系数与扩散系数成正比，与薄膜的厚度成反比。A对B错
单选题HPLC中，对柱效影响可以忽略不计的因素是（）A固定相传质阻力B纵向扩散C涡流扩散D流动相传质阻力
单选题在烧结过程中，只改变气孔形状而不引起坯体收缩的传质方式是（）。A扩散传质B蒸发－凝聚传质C流动传质D溶解－沉淀传质
单选题在烧结过程中只改变坯体中气孔的形状而不引起坯体致密化的传质方式是（）。A流动传质B蒸发—凝聚传质C溶解—沉淀D扩散传质
填空题固相烧结的扩散传质模型中，原子（离子）的迁移方向由颗粒接触点向（）迁移，从而达到气孔填充的结果。
填空题烧结的推动力是（），它可凭下列方式推动物质的迁移：蒸发-凝聚传质，扩散传质，流动传质，溶解-沉淀传质。