单选题焦饼中心温度是焦炭成熟的指标,一般生产中焦饼中心温度达()时焦饼已成熟。A800±50℃B900±50℃C1000±50℃D1100±50℃

单选题
焦饼中心温度是焦炭成熟的指标,一般生产中焦饼中心温度达()时焦饼已成熟。
A

800±50℃

B

900±50℃

C

1000±50℃

D

1100±50℃


参考解析

解析: 暂无解析

相关考题:

()温度确定的依据是焦饼中心温度。

测量焦饼中心温度的目的是什么?

焦饼中心温度一般控制在()。

在什么情况下要测量焦饼中心温度?怎样测量焦饼中心温度?

焦饼中心温度一般控制在1000±50℃。

焦炉强化生产时,标准温度显著升高,容易造成()等。A、低温事故B、炭化室内石墨生长很快C、焦饼成熟不匀D、焦炭较碎

当焦饼中心温度达到()时,焦炭即告成熟。A、800℃B、950℃C、1000℃D、1050℃

通常表征焦炭成熟的温度指标是()。A、炉顶空间温度B、焦饼中心温度C、标准火道温度D、横排温度

焦饼的中心温度一般在()℃,焦饼上、下温差应小于()℃。

一般焦饼中心温度达到()可视为焦饼成熟。

测量焦饼中心温度的目的是什么?在何种情况下,要测焦饼中心温度?

测焦饼中心温度是为了(),对大型硅砖焦炉来说,要求最终的焦饼中心温度是()。

焦饼中心温度一般控制在1000+50℃。

成熟焦饼中心面上有一条缝称为()。

焦饼中心温度是焦炭成熟的指标,一般生产中焦饼中心温度达()时焦饼已成熟。A、800±50℃B、900±50℃C、1000±50℃D、1100±50℃

焦饼中心温度是评价焦炭均匀成熟的指标。

用焦饼中心测温管测焦饼中心温度时,管端距炭化室底部约为()mm。A、300B、600C、800

最能反映焦炭成熟的温度指标是()。A、炉顶空间温度B、焦饼中心温度C、直行温度D、横排温度

焦饼中心温度为900±50℃。

改变结焦时间或改变标准温度时,应该测量焦饼中心温度。

标准温度是指机焦侧火道平均温度的控制值,是规定结焦时间内保证焦饼成熟的主要温度指标。

强化生产时,标准温度显著升高,容易造()等。A、低温事故B、炭化室内石墨生长很快C、焦饼成熟不匀D、焦炭较碎

填空题()温度确定的依据是焦饼中心温度。

单选题最能反映焦炭成熟的温度指标是()。A炉顶空间温度B焦饼中心温度C直行温度D横排温度

问答题在什么情况下要测量焦饼中心温度?怎样测量焦饼中心温度?

判断题焦饼中心温度是评价焦炭均匀成熟的指标。A对B错

单选题用焦饼中心测温管测焦饼中心温度时,管端距炭化室底部约为()mm。A300B600C800