抛光产品检验“水纹”缺陷应从抛光纹路的()去看。A、横向B、纵向C、任意方向

抛光产品检验“水纹”缺陷应从抛光纹路的()去看。

  • A、横向
  • B、纵向
  • C、任意方向

相关考题:

喷砂抛光机的工作原理是A、高频振荡抛光B、物理抛光C、电化学抛光D、超声波抛光E、电动抛光

拉深模工作部分经抛光和研磨后的纹路方向应和拉深方向()。 A.—致B.垂直C.成45°D.成30°

镜片的抛光的设备为()。A.低速抛光机B.中速抛光机C.高速抛光机D.超高速抛光机

抛光可以去除车漆原有缺陷。

有一种抛光方法,抛光后能得到的表面粗糙度一般为数10μm,它不需要复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率很高,它的难点是配制抛光液复杂。这种方法是()。A、化学抛光B、超声波抛光C、磁研磨抛光D、机械抛光

板材抛光机与金属抛光机最大的不同是板材抛光机的()A、抛光轮较大;B、抛光轮较小;C、电机转速较小;D、电机转速较大。

抛光时抛光剂的供给越多,抛光效率越快。

关于打磨力度大小叙述,正确的是()A、粗磨细磨抛光B、抛光粗磨细磨C、抛光细磨粗磨D、粗磨抛光细磨E、细磨粗磨抛光

当轧管表面纹路不均匀时应采取的措施()A、调整轧辊位置B、打磨抛光轧辊C、换衬套D、调整仰角

拉深模工作部分经抛光和研磨后的纹路方向应和拉深方向()。A、—致B、垂直C、成45°D、成30°

塑料模在最后研磨、抛光型腔内侧表面时,研磨抛光的纹路应与脱模方向()A、成一定角度B、平行C、垂直D、没有特殊要求

如何处理涂膜的颗粒缺陷().A、直接抛光B、大的颗粒进行打磨,进行修补C、小颗粒研磨后进行抛光

精密模具的镜面加工,主要是以()为主。A、化学抛光B、超声波抛光C、磁研磨抛光D、机械抛光

有一种抛光方法,它是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的,这种抛光方法叫()。A、化学抛光B、超声波抛光C、流体抛光D、机械抛光

对硬质合金的抛光方法是()。A、磨削式抛光B、腐蚀性抛光C、电解式抛光D、化学抛光

粗抛光的抛光纹路应()A、与电镀扫色纹路保持一致B、以容易抛光为原则C、没有要求

产品表面有水纹或砂孔时,抛光应()A、用力深抛去除水纹或砂孔B、不用去除C、以不破坏致密层为基准尽量去除

抛光产品检验“砂纹”缺陷应从抛光纹路的()去看。A、横向B、纵向C、任意方向

抛光过程可能出现的严重缺陷是()A、水纹B、砂孔C、变形、螺牙损坏

抛光法用以消除面漆膜表面的局部缺陷,如();();()。

硅片抛光在原理上不可分为()A、机械抛光法B、化学抛光法C、手工抛光法D、机械--化学抛光法

单选题宝业厂的抛光属于以下哪种抛光()A电解抛光B化学抛光C磨光D电解与化学抛光

填空题常规的硅材料抛光方式有:()抛光,()抛光,()抛光等。

单选题利用超声振动的能量,通过机械装置对型腔表面进行抛光加工的工艺方法是()。A手工抛光B机械抛光C超声波抛光D挤压抛光

单选题下面不属于手工抛光的是()。A用砂纸抛光B用油石抛光C研磨D挤压抛光

填空题常用的研磨抛光方法有:手工研磨抛光、电化学抛光、超声波抛光和()

单选题挤压研磨抛光的特点是()。A适用范围小,但抛光效果好,研磨抛光效率高B适用范围广,抛光效果好,研磨抛光效率高C适用范围广,抛光效果一般,但研磨抛光效率高D适用范围广,抛光效果好,但研磨抛光效率低