JB/T4730.4-2005标准规定:磁悬液的施加可采用喷、浇、浸、刷涂等方法。无论用哪种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。

JB/T4730.4-2005标准规定:磁悬液的施加可采用喷、浇、浸、刷涂等方法。无论用哪种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。


相关考题:

磁悬液的施加可以采用喷、浇、浸、刷涂等方法,无论采用何种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。

JB/T4730.4-2005标准规定,磁粉探伤设备上的电流表至少每年应校验一次。()

JB/T4730标准规定,磁悬液的施加不可采用()A、喷洒法B、浇洒法C、浸泡法D、刷涂法

根据JB/T4730-2005标准规定,磁悬液的施加可可采用喷、浇、刷、浸等方法,但无论用哪种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。()

JB/T4730.4-2005标准规定的水断试验,主要是用来检验水磁悬液对被检表面的润湿性能,只有出现裸露的“水断”表面,才可以开始磁粉检测。

JB/T4730.4-2005标准规定:磁粉检测的工件表面不得有油脂、铁锈、氧化皮或其它粘附磁粉的物质。

JB/T4730.4-2005标准对缺陷磁痕显示记录是如何要求的?

JB/T4730.4-2005标准规定:磁粉检测时一般应选用A1-60/100型标准试片。

JB/T4730.4-2005标准规定:缺陷磁痕显示的记录可采用照相、录像和可剥性塑料薄膜等方式记录,同时应用草图标示。

JB/T4730.4-2005标准对一次性使用新配制的磁悬配制浓度有何规定?

JB/T4730.4-2005标准规定对在用承压设备的磁粉检测有何要求?

JB/T4730.4-2005标准规定:非荧光磁粉磁悬液配制浓度为()g/L。A、0.5~3.0B、0.1~0.4C、10~25D、1.2~2.4

JB3965-85规定湿磁粉连续磁化法,在通磁化电流时应同时施加磁悬液。磁化电流每次持续时间为(),间歇时间不得超过()。停施磁悬液至少()后,才可停止磁化。

JB/T4730.4-2005标准规定:磁粉检测时,长度小于等于0.5mm的缺陷磁痕不计。

JB/T4730.4-2005标准规定:缺陷磁痕的观察应在磁痕形成后立即进行。

单选题JB/T4730.4-2005标准规定:非荧光磁粉磁悬液配制浓度为()g/L。A0.5~3.0B0.1~0.4C10~25D1.2~2.4

判断题JB/T4730.4-2005标准规定的水断试验,主要是用来检验水磁悬液对被检表面的润湿性能,只有出现裸露的“水断”表面,才可以开始磁粉检测。A对B错

问答题JB/T4730.4-2005标准对一次性使用新配制的磁悬配制浓度有何规定?

问答题JB/T4730.4-2005标准规定对在用承压设备的磁粉检测有何要求?

判断题磁悬液的施加可以采用喷、浇、浸、刷涂等方法,无论采用何种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。A对B错

判断题JB/T4730.4-2005标准规定:磁粉检测用的磁探机应定期进行校验,并有记录可查。A对B错

判断题根据JB/T4730-2005标准规定,磁悬液的施加可可采用喷、浇、刷、浸等方法,但无论用哪种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。()A对B错

判断题JB/T4730.4-2005标准规定:缺陷磁痕显示的记录可采用照相、录像和可剥性塑料薄膜等方式记录,同时应用草图标示。A对B错

判断题JB/T4730.4-2005标准规定:缺陷磁痕的观察应在磁痕形成后立即进行。A对B错

填空题JB3965-85规定湿磁粉连续磁化法,在通磁化电流时应同时施加磁悬液。磁化电流每次持续时间为(),间歇时间不得超过()。停施磁悬液至少()后,才可停止磁化。

单选题JB/T4730标准规定,磁悬液的施加不可采用()A喷洒法B浇洒法C浸泡法D刷涂法

判断题JB/T4730.4-2005标准规定:磁悬液的施加可采用喷、浇、浸、刷涂等方法。无论用哪种方法,均不应使检测面上磁悬液的流速过快。A对B错