工艺简述利用同位素示踪测定注水井吸水剖面的工艺过程。

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相关考题:

测定非理想流动的停留时间分布函数时,最常见的示踪物输入方法为_______。A.脉冲示踪法B.复合示踪法C.阶跃示踪法D.同位素示踪法

放射性同位素示踪测井在吸水层位、压裂层位、窜槽部位等处,示踪曲线有较高的幅度值。() 此题为判断题(对,错)。

同位素示踪测井时,注同位素后的自然伽马曲线的异常增加值,反映了对应地层的吸水能力。() 此题为判断题(对,错)。

利用同位素示踪测井注入前后的两条伽马曲线相对异常增加值,可计算得出相应地层的相对和绝对吸水量。() 此题为判断题(对,错)。

测量注水井吸水剖面的方法有流量计法和放射性同位素示踪法。() 此题为判断题(对,错)。

注水井吸水能力的预测可采用()方法。 A.根据油藏数值模拟结果分析B.利用试注指示曲线确定C.利用渗流力学公式计算D.利用水井挤注措施资料估算

井下释放同位素吸水剖面的密闭测井施工工艺要求:在拆除压力表安装井口防喷装置前,需先关闭井口()阀门。 A、生产B、清蜡C、放空D、总

一般利用生物通风技术治理包气带土层有机污染,其工艺流程的种类有()。A:单注工艺B:双注工艺C:注-抽工艺D:抽-注工艺

水文水井的基本生产过程包括哪几个工艺过程?

同位素示踪法中使用的同位素是哪种同位素?

注入剖面测井的测量方法为示踪法,即利用放射性同位素示踪法测试注入井()。A、分层采出量B、全井采出量C、分层注入量D、全井注入量

同位素示踪曲线测量井段为井底遇阻处至最上一个吸水层顶界以上()米。A、20B、50C、30D、40

简述放射性同位素示踪剖面测井的质量要求。

放射性同位素示踪测井在()、()、()等处,示踪曲线有较高的幅度值。

放射性同位素示踪注水剖面测井是在注水井正常注水的情况下将()注入到井内。A、硼酸B、放射性同位素示踪剂C、煤油D、重晶石

化学调剖是在注水井中用注入化学剂的方法,来()高渗透层的吸水量,从而相应提高注水压力,达到()中低渗漏层吸水量,改善注水井吸水剖面的工艺技术。A、提高、提高B、提高、降低C、降低、提高D、降低、降低

注水井吸水剖面的级别可划分为()。A、吸水好B、吸水较好C、吸水差D、不吸水

观察细胞器的亚显微结构使用的工具和分离细胞器常用的方法分别是()A、光学显微镜、同位素示踪法B、电子显微镜、同位素示踪法C、放大镜、同位素示踪法D、电子显微镜、差速离心法

吸水剖面对注水井配注和调剖都十分重要,常用()方法进行测定。吸水剖面可形象地反映出注水井不同吸水层()的大小。

吸水剖面对注水井配注和调剖都十分重要,常用()方法进行测定。吸水剖面可形象地反映出注水井不同吸水层吸水能力的大小。

下列不属于注水工艺的是()。A、质处理B、生产管柱设计C、注水管柱设计D、注水井吸水能力分析

同位素载体示踪法测井采用下列哪种方法计算各层的相对吸水量()。A、半幅点法B、正演法C、异常面积法D、反演法

放射性同位素载体示踪法测井确定吸水剖面的基本原理是什么?

名词解释题同位素示踪法

问答题同位素示踪法中使用的同位素是哪种同位素?

单选题水井调剖后,要及时测同位素吸水剖面,分析其()是否发生变化,吸水层段和厚度是否增加。A注水曲线B产出剖面C吸水剖面D吸水指数

问答题简述挤压自熟玉米方便面的加工的主要工艺过程。