判断题由于热处理使试件某些区域的磁导率改变,可能形成非相关显示。A对B错

判断题
由于热处理使试件某些区域的磁导率改变,可能形成非相关显示。
A

B


参考解析

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由于热处理使试件某些区域的磁导率改变,可能形成非相关显示。()

由于渗透剂污染等所引起的渗透剂显示,称为()。A、相关显示B、非相关显示C、缺陷显示D、虚假显示

下列有关磁写的叙述()是正确的A、它出现于磁导率不同的分界线上B、由于被磁化的试件与非磁性材料接触引起的C、由于磁化磁场过强引起的D、由于磁化电流太大引起的E、由于被磁化的试件相互接触造成的

下列关于磁写的叙述中,正确的是()A、它出现于磁导率不同的分界线上B、由被磁化的试件与未磁化的试件接触而引起C、由于磁化磁场过强而引起D、由于磁化电流太大而引起E、由于被磁化的试件相互接触而造成F、E和B

下面述及涡流检测中对结果显示有影响的因素,指出哪些是正确的().A、试件的磁导率B、试件的尺寸C、试件的热传导率D、试件的振动E、a和b是正确的

试件的几何形状或磁导率的变化等形成的磁痕是相关显示

材料试件的传热性质可能由于材料成分的变化而改变。

乳化时间过长最可能造成的后果是()。A、在试件上形成大量的非相关显示B、浅的表面缺陷可能漏检C、水洗后可能保留适当的本底D、乳化剂可能硬化,从而阻止显像剂把缺陷中的渗透液吸出来

由于热处理使试件尺寸不相等的拐角区域发生应力集中,可能形成裂纹显示。

涡流检测时,由于趋肤效应的限制,其透入深度有限,这个深度与下述哪些参数有关?()A、激磁电流的频率B、试件的磁导率C、试件的电导率D、以上都是

相关显示与非相关显示是由漏磁场形成的磁痕显示,而伪显示不是由漏磁场形成的磁痕显示。

试件的几何形状或磁导率的变化等形成的磁痕是无关显示

有效磁导率μeff是指()。A、试件的真实磁导率B、真空磁导率C、一个假设的随试件各点性能变化的磁导率D、标准试件的相对磁导率

剩磁法和连续法都能形成一个显示。这显示可能是()。A、伪显示B、非相关显示C、相关显示D、以上都对

由于热处理使试件某些区域磁导率改变,可能形成相关显示。

用剩磁法和连续法都能形成一个显示。这显示可能是:()A、伪显示B、非相关显示C、相关显示D、以上都不对

试件的几何形状或磁导率的变化等均可形成磁痕,这些磁痕是()显示。

判断题由于热处理使试件尺寸不相等的拐角区域发生应力集中,可能形成裂纹显示。A对B错

单选题下面述及涡流检测中对结果显示有影响的因素,指出哪些是正确的().A试件的磁导率B试件的尺寸C试件的热传导率D试件的振动Ea和b是正确的

单选题涡流检测时,由于趋肤效应的限制,其透入深度有限,这个深度与下述哪些参数有关?()A激磁电流的频率B试件的磁导率C试件的电导率D以上都是

判断题由于热处理使试件某些区域磁导率改变,可能形成相关显示。A对B错

填空题试件的几何形状或磁导率的变化等均可形成磁痕,这些磁痕是()显示

单选题有效磁导率μeff是指()。A试件的真实磁导率B真空磁导率C一个假设的随试件各点性能变化的磁导率D标准试件的相对磁导率

判断题试件的几何形状或磁导率的变化等形成的磁痕是相关显示A对B错

单选题用剩磁法和连续法都能形成一个显示。这显示可能是:()A伪显示B非相关显示C相关显示D以上都不对

单选题乳化时间过长最可能造成的后果是()。A在试件上形成大量的非相关显示B浅的表面缺陷可能漏检C水洗后可能保留适当的本底D乳化剂可能硬化,从而阻止显像剂把缺陷中的渗透液吸出来

判断题试件的几何形状或磁导率的变化等形成的磁痕是无关显示A对B错