单选题分布在釉质厚度的内4/5处,改变入射光角度可以使明暗带发生变化,称为()A绞釉B施雷格线C无釉柱釉质D釉小皮E釉面横纹

单选题
分布在釉质厚度的内4/5处,改变入射光角度可以使明暗带发生变化,称为()
A

绞釉

B

施雷格线

C

无釉柱釉质

D

釉小皮

E

釉面横纹


参考解析

解析: 施雷格线用落射光观察牙齿纵向磨片时,可见宽度不等的明暗相间带,分布在釉质厚度的4/5处,改变入射光角度可以使明暗带发生变化,这些明暗带称为施雷格线。

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骨骼肌细胞明暗交替的横纹是由于A、各条肌原纤维的明暗横纹都相应排列在同一平面上B、明带和暗带内的肌质网含量不同C、明带和暗带内的肌红蛋白含量不同D、明带和暗带内的糖原含量不同E、明带和暗带内的线粒体数量不同

骨骼肌细胞明暗交替的横纹是由于A、各条肌原纤维的明暗横纹都相应地排列在同一平面上B、明带和暗带内的肌红蛋白含量不同C、明带和暗带内的线粒体数量不同D、明带和暗带内的糖原含量不同E、明带和暗带内的肌浆网含量不同

落射光角度改变釉质表面所形成的明暗带是A.施雷格板B.雷丘斯线C.新生线D.欧文线E.冯.埃布纳线

一束光垂直入射在偏振片上,以入射光线为轴转动,观察通过的光强的变化过程,若入射光是()光,则将看到光强不变;若入射光是(),则将看到明暗交替变化,有时出现消光;若入射光是(),则将看到明暗交替变化,但不出现消光。

四环素色素在牙体内沉着的方式是A.在牙本质内弥散分布B.沿牙本质生长线沉积于牙本质内C.在牙釉质内弥散分布D.沿牙釉质生长线沉积于牙釉质内E.沿釉柱沉积于牙釉质内

落射光角度改变釉质表面所形成的明暗带是A、施雷格线B、雷丘斯线C、新生线D、欧文线E、埃布纳线

釉丛的高度为A、釉质的全厚B、釉质厚度的1/4~1/3C、釉梭高度的1/2D、釉板高度的1/4E、釉质厚度的1/3~ 2/3

免疫散射比浊法的说法不正确的是A、散射光强度与颗粒的分子量、数目、大小及入射光强度成正比B、散射光强度与微粒至检测器的距离,入射光波长成反比C、颗粒直径小于入射光波长的1/10时,散射光强度在各个方向的分布均匀一致,称为Debye散射D、散射光强度随角度而变化E、使用高强度激光可提高检测灵敏度

嵌体的洞缘斜面预备常规要求是A、在釉质内预备出45°;斜面,斜面起于釉质厚度2/3处,宽度约1.5mmB、在釉质内预备出30°;斜面,斜面起于釉质厚度2/3处,宽度约为1.0mmC、在釉质内预备出45°;斜面,斜面起于釉质1/2处,宽度约为1.5mmD、在釉质内预备出30°;斜面,斜面起于釉质2/3处,宽度约为1.0mmE、在釉质内预备出45°;斜面,斜面起于釉质1/3处,宽度约为1.5mm

免疫散射比浊法的说法不正确的是A.散射光强度与颗粒的分子量、数目、大小及入射光强度成正比B.散射光强度与微粒至检测器的距离,入射光波长成反比C.颗粒直径小于入射光波长的1/10时,散射光强度在各个方向的分布均匀一致,称为Debye散射D.散射光强度随角度而变化E.使用高强度激光可提高检测灵敏度

落射光角度改变釉质表面所形成的明暗带是A.施雷格线 B.雷丘斯线 C.新生线 D.欧文线 E.埃布纳线

()是指网点在空间分布没有规律,为随机分布。每个网点的面积保持不变,依靠改变网点的密集程度,也就是改变网点在空间的分布频率,使原稿上图像的明暗层次在印刷品上得到再现。

在吸光光度法中,透过光强度和入射光强度之比,称为()A、吸光度B、透光率C、吸收波长D、吸光系数E、液层厚度

板带材按规格一般将其厚度在()称为中厚板。A、4~0.2mmB、4~20mmC、4~60mm

浇筑混凝土时分()薄层进行浇筑,以使()化热能尽快散发,并使浇筑后的温度分布均匀,水平层厚度可控制在()范围内。

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在光照射下,电子逸出物体表面向外发射的现象称为(),入射光强改变物质导电率的物理现象称为()。

在光照射下,电子逸出物体表面向外发射的现象称为外光电效应,入射光强改变物质导电率的物理现象称为内光电效应。

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若对应于衍射角φ=30°,单缝处的波面可划分为4个半波带,则单缝的宽度a=()λ(λ为入射光波长)

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单选题分布在釉质厚度的内4/5处,改变入射光角度可以使明暗带发生变化,称为()A绞釉B施雷格线C无釉柱釉质D釉小皮E釉面横纹

单选题落射光角度改变釉质表面所形成的明暗带是()A施雷格板B雷丘斯线C新生线D欧文线E冯.埃布纳线

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填空题明暗素描的造型基础是以光为前提的,在特定的光线照射下,物体根据其与光源的角度向背而形成明暗深浅不同的色面。明暗变化可概括为()、()、()三种基本色阶。

填空题()是指网点在空间分布没有规律,为随机分布。每个网点的面积保持不变,依靠改变网点的密集程度,也就是改变网点在空间的分布频率,使原稿上图像的明暗层次在印刷品上得到再现。