锅炉压力至10MPa开始洗硅，不符合该压力下硅含量标准也可允许升至下一级A对B错

锅炉压力至10MPa开始洗硅，不符合该压力下硅含量标准也可允许升至下一级

A对

B错

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略

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单晶硅的变形也压力成严格的() A、反比B、正比C、相等D、等差
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根据《海船规范》,锅炉安全阀的开启压力可()。 A、大于实际允许工作压力10%，但不应超过锅炉设计压力B、等于设计压力C、大于实际允许工作压力15%，但不应超过锅炉设计压力D、大于实际允许工作压力5%，但不应超过锅炉设计压力
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洗硅过程，是在保证蒸汽含硅量维持一定的前提下，根据锅炉汽包压力与炉水允许含盐量（SiO2含量）的关系进行的。A对B错
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在锅炉升压洗硅过程中，根据锅炉的运行压力，控制炉水二氧化硅含量，使蒸汽二氧化硅含量小于（）μg/kg，维持炉水pH值在9～10之间。A80B40C60
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校验一块精度为1.5级，量程为6.0MPa的工业压力表，选用的标准压力表的精度和量程为（）A、0.4级，16MPa；B、0.6级，10MPa；C、0.25级，10MPa；
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硅酸的溶解携带系数与饱和蒸汽的压力和锅炉水中的压力和锅炉水中硅化合物的形态（）。A、有关B、无关
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对装有过热器的锅炉，当锅炉压力升至工作压力的（）时，开始吹洗过热器和主蒸汽管道。A、75%B、85%C、80%D、90%
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冶炼硅铁时，因含铁量不同，反应放出的热量也不同，因而不同含硅量的硅铁，其开始还原温度也不同，冶炼75%硅铁时的开始还原温度是（）A、1450℃B、1588℃C、1644℃D、1750℃
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在升压过程中，应严格控制锅水及蒸汽品质。当汽压升至（）MPa时，开始洗硅。
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汽包锅炉升温、升压过程中，应分不同压力段进行洗硅，严格控制锅水含硅量。
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硅含量测定标准中规定硅含量小于等于0.05，测定值为0.051，请使用全数值比较法／修约值比较法分别判断是否符合：（）。A、不符合／符合B、符合／不符合C、符合／符合D、不符合／不符合
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为了保证蒸汽含硅量不超过允许值，锅炉压力越高，锅炉水的含硅量应越低。（）
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关于锅炉的运行压力对蒸汽的溶解携带硅酸的影响，说法正确的是（）。A、锅炉的运行压力对蒸汽的溶解硅酸无影响B、锅炉的运行压力越高，蒸汽溶解携带硅化合物的能力越小C、锅炉水运行压力越低，蒸汽溶解携带硅化合物的能力越小D、不确定
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下列哪项不属于压阻式压力表压力传感器的构件（）。A、硅膜片B、引线C、绝缘体D、硅杯
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精度最高、稳定性最好、零漂最小的是（）A、扩散硅压力变送器B、单晶硅谐振压力变送器C、电容式压力变送器
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扩散硅压力变送器是基于扩散硅半导体压阻片的（）与被测压力成正比的原理工作的。
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在我国通常称为工业硅或冶金级硅含量在（）以上。A、90%B、92%C、95%D、97%
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洗硅过程，是在保证蒸汽含硅量维持一定的前提下，根据锅炉汽包压力与炉水允许含盐量（SiO2含量）的关系进行的。
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扩散硅式压力变送器的工作主要是基于（）。A、硅晶体的压阻效应B、硅晶体的扩散效应C、硅晶体的应变效应D、硅晶体的半导体特性
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锅炉压力至10MPa开始洗硅，不符合该压力下硅含量标准也可允许升至下一级
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锅炉升压洗硅过程中，要求汽包压力为（）MPa；（）MPa；（）MPa；（）MPa时，炉水含硅量应分别低于（）PPM；（）PPM；（）PPM；（）PPM。
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锅炉蒸汽硅超标，会导致汽轮机低压缸末级叶片积硅。
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锅炉炉水中硅的含量控制在20ppt以内。
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多选题锅炉洗硅时，应注意（）。A洗硅操作过程要求蒸汽含硅量一直在合格范围；B洗硅操作时炉水含硅量必需符合相应压力下的允许值；C洗硅操作与锅炉压力无关，但要求持续排污；D洗硅时通过排污将水汽系统中残留的硅含量，逐步加以清除。
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单选题压阻式压力传感器中的硅膜片通常是（）。A单晶硅B多晶硅C非晶硅D硅蓝宝石
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问答题锅炉启动时如何洗硅？
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判断题洗硅过程，是在保证蒸汽含硅量维持一定的前提下，根据锅炉汽包压力与炉水允许含盐量（SiO2含量）的关系进行的。A对B错
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