单选题对于硅胶而言,其表面的硅羟基是进行化学修饰的基础,硅胶表面的硅羟基的主要存在形式是()A硅三羟基;B硅二羟基;C邻位硅羟基;D单硅羟基;

单选题
对于硅胶而言,其表面的硅羟基是进行化学修饰的基础,硅胶表面的硅羟基的主要存在形式是()
A

硅三羟基;

B

硅二羟基;

C

邻位硅羟基;

D

单硅羟基;


参考解析

解析: 暂无解析

相关考题:

临床上常用的隆鼻硅胶材料为A、硅橡胶B、硅胶囊C、液体硅胶D、硅凝胶E、硅胶膜

含3-羟基或5-羟基或邻二酚羟基的黄酮不宜用下列哪种色谱法分离A、硅胶B、聚酰胺C、氧化铝D、葡聚糖凝胶E、分配色谱

不属于高效液相色谱柱的是A、强阳离子色谱柱B、聚硅氧烷毛细管色谱柱C、强阴离子色谱柱D、硅胶色谱柱E、十八烷基键合硅胶色谱柱

组织工程的常用支架材料包括 A、聚羟基乙酸B、胶原C、钛合金D、脱细胞基质E、硅胶

目前应用最多的注射充填材料是 A、胶原B、羟基磷灰石C、透明质酸D、硅胶E、聚乳酸

不含黏合剂的硅胶常用的吸附剂为A.硅肢G B.硅肢HC.硅胶GF254 D.硅肢 HF254E.硅胶 GF366

含黏合剂煅石膏和荧光剂的硅胶常用的 吸附剂为A.硅肢G B.硅肢HC.硅胶GF254 D.硅肢 HF254E.硅胶 GF366

含黏合剂煅石音的硅胶常用的吸附剂为A.硅肢G B.硅肢HC.硅胶GF254 D.硅肢 HF254E.硅胶 GF366

固定相受下列哪几个因素影响()。A键合类型B残余硅羟基的影响C反相键合相的保留行为D键合硅胶的稳定性

现今大多数胸部假体使用的材料是()。A、盐水袋B、水凝胶C、硅凝胶D、硅胶

硅胶的化学修饰大致可以三种不同的方式进行,即整体修饰、通过表面硅羟基的化学修饰以及涂层法。

对于硅胶而言,其表面的硅羟基是进行化学修饰的基础,硅胶表面的硅羟基的主要存在形式是()A、硅三羟基;B、硅二羟基;C、邻位硅羟基;D、单硅羟基;

分离羟基蒽醌,常用的吸附剂是()A、硅胶B、活性炭C、氧化铝D、聚酰胺E、葡聚糖凝胶

在液-固色谱法中,以硅胶为固定相,对以下四组分,最后流出色谱柱的组分可能是()。A、苯酚B、苯胺C、邻羟基苯胺D、对羟基苯胺

分离羟基蒽醌,常用的填料是()A、硅胶B、活性炭C、氧化铝D、聚酰胺E、葡聚糖凝胶

下面属于非极性吸附剂的是()A、C18B、氧化铝C、键合硅胶D、硅镁吸附剂

镍触媒系统工作液中氢化萜松醇的测定,是将氢化萜松醇在()存在下进行脱羟基反应,并测定反应生成的水,换算成醇含量。A、氧化铝B、氧化锌C、变色硅胶加磷酸D、变色硅胶加盐酸

合成硅铝酸盐的含硅化合物中最常用的是()A、硅胶B、水玻璃C、硅溶胶D、二氧化硅

简述表面硅羟基的化学修饰。

加热可使硅胶中硅醇基脱水生成硅氧醚结构而丧失吸附力,其最低温度为:()A、120℃B、150℃C、180℃D、200℃E、>200℃

下列化合物进行硅胶薄层层析,以甲苯-氯仿-丙酮(8:5:5)展开,判断其Rf值大小:  A、芹菜素(5,7,4’-三羟基黄酮) B、山奈酚(3,5,7,4’-四羟基黄酮) C、槲皮素(3,5,7,3’,4’-五羟基黄酮) D、桑色素(3,5,7,2’,4’-无羟基黄酮) E、高良姜素(3,5,7-三羟基黄酮)

多选题分离羟基蒽醌,常用的填料是()A硅胶B活性炭C氧化铝D聚酰胺E葡聚糖凝胶

单选题含3-羟基或5-羟基或邻二酚羟基的黄酮不宜用下列哪种色谱法分离()A硅胶B聚酰胺C氧化铝D葡聚糖凝胶E分配色谱

判断题硅胶的化学修饰大致可以三种不同的方式进行,即整体修饰、通过表面硅羟基的化学修饰以及涂层法。A对B错

问答题下列化合物进行硅胶薄层层析,以甲苯-氯仿-丙酮(8:5:5)展开,判断其Rf值大小:  A、芹菜素(5,7,4’-三羟基黄酮) B、山奈酚(3,5,7,4’-四羟基黄酮) C、槲皮素(3,5,7,3’,4’-五羟基黄酮) D、桑色素(3,5,7,2’,4’-无羟基黄酮) E、高良姜素(3,5,7-三羟基黄酮)

单选题加热可使硅胶中硅醇基脱水生成硅氧醚结构而丧失吸附力,其最低温度为:()A120℃B150℃C180℃D200℃E>200℃

问答题简述表面硅羟基的化学修饰。