单选题乳牙Ⅱ类洞何种情况下可制备成无台阶形复面洞()A乳牙接触点较近面时B乳牙龈缘较近面时C乳牙龋蚀较近面时D乳牙龋蚀及龈缘较近面时E乳牙接触点、龈缘或龋蚀较近面时

单选题
乳牙Ⅱ类洞何种情况下可制备成无台阶形复面洞()
A

乳牙接触点较近面时

B

乳牙龈缘较近面时

C

乳牙龋蚀较近面时

D

乳牙龋蚀及龈缘较近面时

E

乳牙接触点、龈缘或龋蚀较近面时


参考解析

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右下第一磨牙颊侧点隙及 面窝沟龋坏制备的BO复面洞属于A.Ⅰ类洞B.Ⅱ类洞C.Ⅲ类洞D.Ⅳ类洞E.Ⅴ类洞

窝洞制备时,对于抗力形的要求,错误的是A、洞的深度达到釉牙本质界下0.5mmB、盒形洞形:底平,壁直C、复面洞阶梯的龈壁为向颈方的斜面D、去除薄壁弱尖E、洞缘曲线圆钝

龋洞的分类正确的是( )A.Ⅰ类洞:发生在局部牙面发育点隙裂沟的龋损所制备的洞形B.Ⅱ类洞:发生于前牙邻面的龋损所制备的洞形C.Ⅲ类洞:前牙邻面未累及切角的龋损所制备的洞形D.Ⅳ类洞:磨牙邻面累及切角的龋损所制备的洞形

下列哪项是复合树脂充填洞形制备特点A.制备典型盒状洞形,设计良好固位形B.去净无基釉,洞缘角成直角C.无需去净无基釉,但要有良好的抗力形D.底平壁直,洞形达一定深度E.点线角圆滑,洞缘角应制备短斜面

Ⅴ类洞的制备要点,不妥的是A、Ⅴ类洞是开放的洞,不易制备抗力形和固位形,需制作针道B、Ⅴ类洞是一种简单的洞C、Ⅴ类洞制备较容易,但需要一定的固位形D、Ⅴ类洞不承受咀嚼压力,因此对抗力形的要求不高E、备洞时常把Ⅴ类洞的外形作成肾形或半圆形

嵌体修复乳牙I类洞形时,牙体制备的深度应达牙本质A.0.5mmB.0.8mmC.1.0mmD.1.2mmE.1.5mm

根据G.V.Black的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的A.Ⅰ类洞都是单面洞B.Ⅱ类洞都是复面洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形

乳磨牙制备银汞洞型时,哪项不正确A.牙合面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型,不必扩展B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C.为避免意外穿髓不必强调底平D.洞要有一定深度,线角要圆钝E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点

乳牙的嵌体修复法适用于A.乳磨牙Ⅰ类复合洞形和Ⅱ类复合洞形B.乳磨牙Ⅱ类复合洞形和Ⅲ类复合洞形C.乳磨牙Ⅲ类复合洞形和Ⅳ类复合洞形D.乳磨牙Ⅳ类复合洞形和Ⅴ类复合洞形E.乳磨牙Ⅴ类复合洞形和Ⅰ类复合洞形

A.Ⅰ类洞B.Ⅱ类洞C.Ⅲ类洞D.Ⅳ类洞E.Ⅴ类洞舌侧窝沟龋坏制备的洞形

乳磨牙龋坏制备洞形时,哪项不正确A.面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞形,不必扩展B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C.为避免意外穿髓不必强调底平D.窝洞要有一定深度,线角要圆钝E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点

复合树脂充填时,洞形要求不包括A.不必做固位形B.洞缘制备成斜面C.前牙可保留无基釉D.洞缘线圆缓E.洞缘及点线角圆钝

下列哪项是复合树脂充填洞形制备特点()A、制备典型盒状洞形,设计良好固位形B、去净无基釉,洞缘角成直角C、无需去净无基釉,但要有良好的抗力形D、底平壁直,洞形达一定深度E、点线角圆滑,洞缘角应制备短斜面

复合树脂充填洞形制备特点()A、底平壁直,洞形必须达到一定的深度B、点线角应圆滑,洞缘角应制备短斜面C、应制备典型的箱状洞,并设计良好的固位形D、洞缘角应成直角,不宜在洞缘角制备短斜面E、无需去净无基釉,但要有良好的抗力形

乳牙Ⅱ类洞何种情况下可制备成无台阶形复面洞()A、乳牙接触点较近面时B、乳牙龈缘较近面时C、乳牙龋蚀较近面时D、乳牙龋蚀及龈缘较近面时E、乳牙接触点、龈缘或龋蚀较近面时

乳磨牙制备银汞洞型时,哪项不正确()A、面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型,不必扩展B、单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C、为避免意外穿髓不必强调底平D、洞要有一定深度,线角要圆钝E、乳牙不用恢复咬合高度和接触点

复合树脂充填时,洞形要求不包括()。A、洞缘及点线角圆钝B、前牙可保留无基釉C、不必做固位形D、洞缘线圆缓E、洞缘制备成斜面

单选题V类洞的制备要点,不妥的是(  )。AV类洞是开放的洞,不易制备抗力形和固位形,需制作针道BV类洞是一种简单的洞CV类洞制备较容易,但需要一定的固位形DV类洞不承受咀嚼压力,因此对抗力形的要求不高E备洞时常把V类洞的外形作成肾形或半圆形

单选题复合树脂充填洞形制备特点()A底平壁直,洞形必须达到一定的深度B点线角应圆滑,洞缘角应制备短斜面C应制备典型的箱状洞,并设计良好的固位形D洞缘角应成直角,不宜在洞缘角制备短斜面E无需去净无基釉,但要有良好的抗力形

单选题复合树脂充填时,洞形要求不包括()。A洞缘及点线角圆钝B前牙可保留无基釉C不必做固位形D洞缘线圆缓E洞缘制备成斜面

单选题根据Black GV的窝洞分类方法,下列哪项是正确的?(  )AI类洞是单面洞BⅡ类洞是复杂洞CI类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形DⅢ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形EV类洞是后牙唇颊侧舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形