加入 使其与干扰离子形成稳定的络合物而消除干扰的方法为络合掩蔽。

加入 使其与干扰离子形成稳定的络合物而消除干扰的方法为络合掩蔽。


参考答案和解析
溶解于水中#乳化剂

相关考题:

在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。 A、控制酸度,降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度,降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度

比色测定时,对微量矿物质元素分离、提取不常用的办法是()。A.加掩蔽剂,改变干扰离子的络合稳定常数,从而降低了溶液中游离子干扰离子的浓度B.调节溶液的PH值,使干扰离子不被络合,从而消除干扰。C.采用萃取法将干扰离子分离掉D.采用氧化还原滴定法将干扰离子分离掉

为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽分为()、()、()。

利用掩蔽剂来降低干扰离子,使之不与()或()络合的方法称为掩蔽法。

指示剂的僵化是指指示剂与()。A、金属离子形成的络合物稳定常数太大B、金属离子形成的络合物稳定常数太小C、EDTA的络合能力相近D、金属离子形成的络合物溶解度太小

不是络合剂EDTA同金属离子形成的络合物的特点为()A、与大多数金属离子都是1∶1的络合关系B、络合物都比较稳定C、络合物多数溶于水D、与无色金属形成的络合物无色E、与有色金属形成的络合物颜色减弱

络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生()反应、()反应和氧化还原反应,以消除干扰。

莫尔法中与Ag+形成沉淀或络合物的阴离子均不干扰测定。

常见金属离子与EDTA形成的络合物,金属离子()越高,离子()越小,形成络合物的稳定性越()。

在配位滴定中掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物的稳定性必须大于EDTA与干扰离子所形成的配合物的稳定性。

若用EDTA测定Zn2+时,Cr3+干扰,为消除影响,应采用的方法是()。A、控制酸度B、络合掩蔽C、氧化还原掩蔽D、沉淀掩蔽

维生素C注射液中的稳定剂对测定产生干扰,为消除干扰而加入的掩蔽剂为()。A、焦亚硫酸钠B、碘C、甲酸D、丙酮

共存离子干扰的消除方法不包括()。A、分步测定B、控制溶液的酸度C、掩蔽干扰离子D、改变干扰离子的价态

在选择掩蔽剂时,掩蔽剂应与被测离子形成络合物。

配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。A、掩蔽剂不与待测离子配合,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断

利用络合反应降低干扰物质的浓度,来消除干扰的方法,称为()。A、络合滴定法B、络合掩蔽法C、干扰封闭法D、选择滴定法

比色测定时,对微量矿物质元素分离、提取不常用的办法是()。A、加掩蔽剂,改变干扰离子的络合稳定常数,从而降低了溶液中游离子干扰离子的浓度B、调节溶液的PH值,使干扰离子不被络合,从而消除干扰。C、采用萃取法将干扰离子分离掉D、采用氧化还原滴定法将干扰离子分离掉

双硫腙比色法测定铅时,加人柠檬酸铵的目的()。A、与许多金属离子形成稳定的络合物而被掩蔽B、防止在碱性条件下碱土金属的沉淀C、防止三价铁离子对双硫踪的氧化D、使铅与双硫腙形成的络合物稳定

利用EDTA测定Ca含量的操作中,加入氰化钠溶液和柠檬酸钠溶液的目的是()A、掩蔽干扰金属离子B、催化反应C、与Ca形成络合物D、与Ca形成显色物

在测定硬度时,若有铁离子干扰,应采用()消除干扰。A、络合掩蔽法B、沉淀掩蔽法C、控制溶液的pH值D、解蔽法

双硫腙比色法测定锌时,加人盐酸羟胺的作用是()。A、消除其他金属离子的干扰B、使锌与双硫踪形成的络合物色泽稳定C、防止三价铁离子氧化双硫腙D、以上都是

气敏电极法测定环境空气中氨时,与氨有强烈反应的离子(如亚汞离子、镁离子)会干扰测定,可加入()掩蔽;游离氯由于形成氯胺干扰,可加入适量()消除干扰。

络合滴定中常使用KCN作掩蔽剂,在将含KCN的废液倒入水槽前应加入(),使其生成稳定的络合物()以防止污染环境。

填空题气敏电极法测定环境空气中氨时,与氨有强烈反应的离子(如亚汞离子、镁离子)会干扰测定,可加入()掩蔽;游离氯由于形成氯胺干扰,可加入适量()消除干扰。

填空题用双硫腙法测定铅,溶液的pH对其影响较大,应控制pH8.5-9.0范围内。双硫腙可与多种金属离子作用生成络合物。在pH8.5-9.0时,加入氰化钾可以掩蔽()等离子的干扰;加入盐酸羟胺可排除()的干扰;加入柠檬酸铵,()。

单选题在测定硬度时,若有铁离子干扰,应采用()消除干扰。A络合掩蔽法B沉淀掩蔽法C控制溶液的pH值D解蔽法

多选题为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽法分为()。A络合掩蔽;B沉淀掩蔽;C氧化-还原掩蔽;D滴定掩蔽。

填空题络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生()反应、()反应和氧化还原反应,以消除干扰。