问答题简述离子注入退火目的与方法。

问答题
简述离子注入退火目的与方法。

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()就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面,使其中离子注入层在极短的时间内达到高温,消除损伤。A、热退火B、激光退火C、连续激光退火D、脉冲激光退火

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