电化学发光的发光底物为()A、吖啶酯B、辣根过氧化物酶C、苯巴比妥D、三联吡啶钌E、微过氧化物酶

电化学发光的发光底物为()

  • A、吖啶酯
  • B、辣根过氧化物酶
  • C、苯巴比妥
  • D、三联吡啶钌
  • E、微过氧化物酶

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电化学发光免疫测定中常用的发光底物为A.三联吡啶钌B.AMPPDC.4-MUPD.鲁米诺E.吖啶酯

直接化学发光免疫分析使用的发光底物为A.三联吡啶钌B.AMPPDC.4-MUPD.鲁米诺E.吖啶酯

常用的辣根过氧化物酶(HRP)化学发光底物为A、鲁米诺或其衍生物B、AMPPDC、4-MUPD、吖啶酯E、三联吡啶钌

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